ASML浸没式DUV光刻机和EUV光刻机正式停产！
前言。 在半导体行业，ASML针对中国大陆市场做出的具体决策无疑引起了业内的广泛关注和热议。 作为全球最大的光刻机制造商，其设备在高端电子产品的制造中发挥着至关重要的作用。
尽管阿斯梅尔早些时候不愿意继续向我国出口DUV光源，但事情进展得如此之快，以至于荷兰在美国的压力下不得不暂时停止向我们提供这项关键技术。
从历史上看，荷兰ASML在中国市场并不总是这样。 早年，我们在国内开展了积极的商务活动，双方不仅就人才交流、技术合作等问题进行了深入交流，还积极为中国本土企业提供先进技术和设备。
随着国际政治形势的变化，中美之间的竞争日趋激烈，阿斯梅尔在国际政治格局中的地位也发生了变化。
尤其是近些年来，美国对其施加了诸多限制，在市场上也受到了不同程度的歧视。 在这方面，“阿斯梅尔”公司必须谨慎，否则将失去商业利益。
2022 年 12 月 8 日，荷兰最大的芯片生产商 **Antium （*Antium Inc宣布，由于来自美国**的压力，该公司决定对其在中华人民共和国的芯片业务实施限制。
因此，根据我们外交**的最新报道，2022年12月9日，美国和荷兰就控制中华人民共和国半导体产品出口达成协议，并取得了初步成果。
10月7日，荷兰表示愿意深化与美国的合作，限制中国企业获得先进芯片技术，并使中国的半导体出口管制机制合法化，以确保遵守美国的一系列出口法规。
根据国内外报道，采取的具体措施包括禁止向中华人民共和国供应荷兰ASML制造的极具竞争力的深紫外光刻机。 这种光刻机不如EUV光刻机强大，但它也足够强大，可以制造分辨率为7nm或更高的芯片。
ASML公开宣言。
新年伊始，出现了一个重大的转折点。 前段时间，全球最大的光刻机制造商ASML发表声明称，荷兰**前段时间决定取消其部分光刻机出口许可证，包括ASML的两大旗舰产品2050 i和2100 i，将不再**给中国企业，这将直接影响到依赖这两类光刻机的少数中国大陆客户。
在这种情况下，我们是否会担心这会对香港高科技公司发展高端芯片技术产生负面影响？ 其实，事情并没有大家想象的那么严重。
ASML的解释并不像看起来那么简单。 虽然ASML只表示2050 i和2100 i光刻机的许可证已被吊销，但已经出口的四种产品仍然可以交付，换句话说，2000 i和1980 di仍然可以根据合同供应给客户。
值得一提的是，四台采用浸没工艺的光刻机都可以生产出45纳米到7纳米的产品，只有产能不同。
值得一提的是，尽管美国一再坚持，但这次荷兰人只吊销了两名平版画家的执照。
如果美国继续施压，荷兰**可能会进一步收紧对2000 i光刻设备的出口管制，但ASML仍将被允许**少量1980 Di光刻机以满足客户需求。
ASML的光刻机并没有停止，因为大量的光刻机产品已经提供给客户。 ASML前段时间宣布，其中国客户对DUV光刻机的预订已接近尾声。
这充分说明ASML的供应渠道并未受到严重影响，中国市场对光刻产品的需求仍然很大。
很明显，ASML光刻机到2023年对中国大陆的销售额将超过60亿元，比2022年增长近三倍; 值得一提的是，ASML去年第二季度占中国大陆市场的24%，第三季度增至46%。
总而言之，我们完全有理由相信，ASML在中国仍然拥有很大的市场份额，并且有足够的库存来满足未来几年的需求。
上海微电子***
据公布资料，荷兰ASML生产的TwinscannXT：2000 I是世界上最先进的深紫外浸没式光刻机之一; 值得注意的是，这种型号和更先进的光刻机受到出口管制政策的约束。
这意味着中国只能继续依赖“1980 DI”等产品，以及那些在精度和容量方面落后于早期同类产品的产品。 据ASMAX官方统计，NXT 1980 DI的分辨率仅为38 nm，数值孔径为135。NXT 1980 DI 的分辨率为 38 nm 和 1数值孔径为 35，每小时可生产 275 个芯片。 虽然经过多次后可以达到7nm以下的精度，但由于工艺成本为14nm及以上，很难量产。
中国克服了种种困难，决心发展自己的微影技术。 目前，上海微电子集团自主研发的SSA600 20浸没式光刻机已实现90nm芯片的量产，实际产能已达到45nm。
虽然ASMAX只向中国市场推出了少量高端光刻设备，但无疑是中国具有自主知识产权的光刻技术。
基于此，上海微电子正在积极开发193纳米氩氦浸没式光刻工艺，有望覆盖从45纳米到22纳米的全工艺规格。
虽然这台光刻机还不能与NXT 1980 DI光刻机相媲美，但它是中国光刻机自主发展的有力证明。
中国要想在紫外光刻技术上赶上世界一流水平，显然需要付出更多的努力和时间。
美国官员正在向ASML施加压力。
根据ASML的官方声明，我们认为，前段时间取消美国出口许可证和实施的出口管制不会对公司2023年的财务状况产生不可持续的影响。
基于此，美国**前段时间与ASML进行了深入对话，进一步阐述了其出口管制的原则及其影响。
特别是2023年10月17日发布的最新出口管制规定，明确禁止向某些高端芯片代工厂提供中高端深紫外光刻机型。
在这方面，ASML还强调其遵守其经营所在国家的所有适用法律和法规，特别是出口管制法规。
另据报道，美国甚至亲自来到阿斯麦，要求其立即停止向中国客户供应部分机械设备，这是阿斯麦的官方声明。
需要指出的是，深紫外光刻实际上用于制造 28nm 及以下的晶圆。
从科学上讲，只需几次**即可制造出 10 纳米尺寸的晶圆。 主要供应商有荷兰的ASML、日本的尼康、佳能等。
随着新一代半导体制造工艺进入5纳米甚至更小的尺寸，极紫外光刻技术将成为新一代光刻工艺的核心技术，特别是在7纳米以下的大规模集成电路设计中，荷兰ASML公司仍是该类型器件的唯一国际领导者。
ASML严格限制设备的出口，这将对全球半导体行业产生重大影响。
浸没式光刻机无法购买。
此前，由于美国政策严格，ASML不允许向中国大陆销售EUV光刻机，中国半导体公司尚未能够使用EUV光刻机作为核心器件。
在此期间，美国继续施加压力，阻止中国大陆的14纳米工艺，并加入日本和荷兰加强对光刻机的出口管制。
日本明确规定，采用浸没式光刻技术的机器不允许在中国使用**; 荷兰ASML还宣布，目前只有一台可出口的浸没式光刻机NXT：1985 DI，这是世界上第一个用于J&J（JPEG）工艺的光刻系统。
接下来的情况表明，美国将在2023年10月再次收紧采购政策，这意味着ASML唯一的光刻机NXT 1985 DI也被禁止出口到中国大陆市场。
ASML也坦言，虽然遇到了一些困难，但由于公司内部的技术优势，今年已经获得了相应的许可证，目前正在进行中，预计在不久的将来，一系列浸没式光刻机（深紫外和极紫外型）将销往中国大陆。
以2024年为起点，预计2024年之后，ASML生产的潜水式深紫外光刻机和极紫外光刻机将在2024年正式停产**中国大陆市场。
特别是今年以来，中国大陆ASML企业大量进口光刻机，截至11月底，中国大陆ASML光刻机进口额已超过500亿元，比去年同期增长近三倍。 很明显，中国大陆正在积极利用ASML在浸没式光刻机市场的市场机会积极采购，毕竟这样的机会在明年之后将很难出现。
永不弯曲的中国核心。
近年来，美国以中国的5G技术为切入点，追风追影，确定中国可能在尖端技术上对自己构成威胁，于是开始以各种方式打压涉华企业，但中国还是催生了一批优秀的芯片企业，比如中芯国际、 长江储能、长鑫科技等
从最初对中国芯片产业的封锁，到后来美国与日本、韩国、荷兰的形成"四方联盟"，最后签署了三方保密协议，逐步加大对中国芯片产业的制裁力度，现在美国能采取的控制措施几乎全部公开。 事实上，美国可以使用的所有控制手段都是开放的。
一些市场受到美国的严格限制，包括半导体原材料和软件制造商、中游光刻机制造商、下游晶圆和代工制造商。
因此，我国应采取自主研发的光刻技术，力争早日实现国产替代。 我们应该认识到，如果我们的国家成功突破这一关键时刻，将标志着美国技术霸权的彻底崩溃。
总的来说，我认为美国对中国芯片产业的限制反而可能成为中国科技进步的机遇和动力。
美国决定对中国实施全面封锁，是为了阻止中国的半导体产业走向高端，中国的中芯国际（SMIC）就是其中之一。
在中国，中芯国际是最具竞争力的芯片生产商，也是全球五大芯片生产商之一。
结论。 目前，在大中华地区，我们已成功与全球多个国家和地区建立了良好的合作关系，包括欧洲著名的英飞凌和意法半导体，日本著名的东芝和村田，以及韩国的三星电子和SK Innovation。
基于此，如果能够找到光刻机等关键设备的多样化替代品和供应渠道，无疑将进一步增强大中华区半导体制造业的抗风险能力，增强其市场竞争力。
基于以上分析可以看出，这一信息对大中华区半导体行业的影响是多方面的，既有正面也有负面，既有严峻的挑战，也有难得的机遇。
因此，我们呼吁业界在这个关键时刻保持冷静，既不能过于消极悲观，也不要过于盲目和傲慢，只有坚定信心，加大自主技术研发力度，扩大国际交流与合作范围，走上半导体产业的高水平发展道路，才能在上游市场竞争激烈中立于不败之地。