目前全球光刻机市场主要由荷兰人组成asml垄断asml仅一个就占了全球份额的90%。 asml的先进光刻机技术在市场上占有重要地位，尤其是浸没式DUV光刻机跟EUV光刻机浸没式DUV光刻机主要应用于65-7nm工艺EUV光刻机它用于7nm以下的工艺。 asml在先进技术领域的份额较为突出，它在arfi光刻机市场占有95%的份额，在EUV光刻机市场是100%垄断的。
由于asml大富翁进阶光刻机市场，一些国家出于各种原因开始限制光刻机出口，包括美国和日本。 美国以前不允许这样做asml之EUV光刻机销往中国大陆，导致中国大陆晶圆厂尚未独立使用EUV光刻机能力。 在那之后，美国统一了日本和荷兰，进一步光刻机强制实施限制。 日本禁止所有这些浸没式光刻机远销中国大陆、荷兰asml意味着只有一个NXT：1985DI浸没式光刻机能够导出。 然而，在2024年10月，美国的禁令再次升级asml唯一可以导出的浸没式光刻机它也已被禁止，不能再卖到中国大陆。 虽然asml说他们在 2023 年获得了许可证，但从 2024 年开始，所有浸没式光刻机不能再卖到中国大陆了。 因此，可以说asml之浸没式DUV光刻机跟EUV光刻机供应已正式切断。
脸asml光刻机在供应中断的情况下，中国大陆晶圆厂急需采购光刻机为响应扩大生产的需要。 数据显示，截至11月，中国大陆已前往asml之光刻机进口额已突破500亿元，较2024年增长约3倍。 在中国大陆使用asml它仍然可以出售浸没式光刻机疯狂批量购买和囤积的时机光刻机在不久的将来供需紧张的情况下。 据业内人士透露，中国大陆目前来自asml购买光刻机应该能够支撑国内晶圆扩产需求三年左右。 然而，三年后，你甚至不需要等三年就能再次面对它光刻机短缺，尤其是尖端短缺arfi跟EUV光刻机
为了突破光刻机**短缺，国产芯片产业势必自主发展光刻机科技。 由于asml短期内无法获得出口许可证，国内研发被渗透arfi光刻机跟EUV光刻机能力将是关键。 中国大陆的微电子水平仍停留在ARF光刻机该工艺仅达到90nm，因此在国内已大量采购已久asml之光刻机。然而，由于技术升级的限制和未来供应中断的风险，国内芯片产业需要加快培育自主研发能力，以保证国内光刻机技术突破和发展。
现在asml之浸没式DUV光刻机跟EUV光刻机由于禁运，将无法继续**到中国大陆。 脸asml光刻机供应中断的挑战，中国大陆晶圆厂采购光刻机速度已大大加快，以满足扩大生产的需要。 但从长远来看，国内芯片产业需要依靠自主研发光刻机技术，尤其是沉浸arfi跟EUV光刻机的突破，确保自身可持续性。当前光刻机采购热潮只是短期应对策略，未来发展必须寻求自主创新，使国内化光刻机该技术可以达到国际先进水平，保证了芯片产业的竞争力和可持续性。通过不断加大科技和研发投入，中国大陆有望在未来光刻机该领域取得突破，带动了芯片产业的整体发展壮大。