ASML浸没式DUV光刻EUV光刻机供应正式中断!

小夏 科技 更新 2024-02-03

ASML浸没式DUV光刻机和EUV光刻机正式停产**!

前言。 在半导体领域,ASML针对中国大陆市场的具体决策过程无疑引起了广泛关注和热议。 作为全球最大的光刻机制造商,公司提供的设备在现代电子产品的生产中发挥着不可替代的作用。

尽管ASMAEL早些时候对继续向我国出口DUV泛光灯犹豫不决,但事态的发展出乎意料地迅速,面对美国的压力,荷兰无法坚持自己的立场,宣布暂时停止向我国供应这项关键技术。

从历史上看,荷兰公司ASML对中国市场的态度并不总是一样的。 早期,公司在国内非常活跃,不仅在人员交流、技术合作等方面进行了深入交流,还积极引进了与促进我国本土企业发展相关的先进技术和设备。

随着国际政治格局的不断演变,中美之间的竞争日趋激烈,阿斯梅尔的态度也发生了变化。

尤其是近几年来,公司在美国受到一系列限制**,甚至在市场交易活动中受到歧视性待遇。 在这种情况下,ASML必须谨慎处理,以确保其商业利益不受损害。

2022年12月8日,据报道,荷兰最大的口香糖生产商安提姆公司在美国的压力下,决定限制其在中华人民共和国的口香糖营销活动。

因此,该国外交媒体参与者报道的最新事态发展表明,2022 年 12 月 9 日,美国和荷兰就可能就对中华人民共和国的半导体出口实施管制达成协议取得了初步结果。

荷兰表示愿意深化与美国的合作,限制中国企业获取尖端集成电路技术,并编纂对华半导体出口管制机制,以与美国10月7日采取的一系列出口措施保持一致。

根据国内和国际报道,具体的执法措施包括禁止向中华人民共和国的荷兰公司ASML供应极具竞争力的DUV浸没式光刻机。 虽然这种光刻机不如EUV光刻机强大,但它仍然具有制造7nm及以上芯片所需的硬件能力。

ASML向公众发表声明。

新年伊始,情况发生了巨大变化。 全球领先的光刻机制造商ASML前段时间发表声明称,荷兰**决定吊销其部分光刻机的出口许可证,包括ASML的两大旗舰产品2050i和2100i,无法再向中国企业供货,直接影响到少数依赖该设备的大陆客户。

在这种情况下,我们难道不担心中国高科技领域的前沿集成电路技术的研发会受到负面影响吗? 事实上,情况并不像你想象的那么惨淡。

ASML的声明并不像看起来那么简单,它有一些微妙之处。 虽然ASML只提到2050i和2100i光刻机的许可证已经撤销,但实际上,它们可以出口的四种产品仍然可以出货,即2000i和1980di可以继续根据合同为客户提供服务。

我们必须意识到的是,这四款采用浸没式制造工艺的光刻机都能够制造出从45nm到7nm的产品,只是生产率不同。

值得注意的是,这一次荷兰**只是吊销了两台光刻机的许可证,即使是应美国的要求**。

如果美国继续施加压力,荷兰**可能会进一步收紧对2000i型光刻机的出口管制,但无论如何,ASML仍将有权运送剩余的少量1980Di型光刻机,以继续为客户服务。

ASML的光刻产品并不止于此,该公司已经为其客户提供大量光刻产品。 在ASML的最新声明中,该公司明确表示,中国客户积压的预付费DUV光刻机已经基本完成。

这充分说明ASML的**渠道并未受到此次事件的严重干扰,也说明中国大陆市场对ASML光刻产品的需求依然强劲。

据了解,截至2023年,ASML已向中国大陆销售价值超过600亿元的光刻产品,2022年销售额增长近3倍; 值得一提的是,ASML去年第二季度来自中国大陆的收入市场份额达到24%,第三季度上升至46%。

考虑到所有这些事实,有理由相信ASML在中国大陆的市场份额仍然相当可观,目前的库存足以确保未来几年的市场需求得到满足。

上海微电子.

根据公开披露的信息,荷兰ASML公司的TwinsCannXT:2000i型号是其最先进的深紫外(DUV)浸没式光刻机之一。

这意味着中国将不得不继续依赖TwinsCannxt:1980Di及更早的设备,这些设备在精度和制造潜力方面落后:根据官方ASMAX的统计数据**,NXT 1980Di的分辨率不低于38纳米,数值孔径为135,每小时可生产多达 275 片晶圆。 虽然该器件经过多次多次后已经能够满足低至7纳米左右的精度要求,但由于成本高昂,难以应用于大规模生产,目前主要用于14纳米及更高精度的要求。

尽管困难重重,中国仍然坚定地致力于发展自己的光刻技术。 现阶段,上海微电子集团研发的SSA600 20浸没式光刻机已成功量产90nm晶圆,目前最大产能甚至可以达到45nm。

虽然与ASML为中国市场提供的高端机型有限存在一定差距,但这无疑是中国自身在光刻技术领域取得的重要成就。

在此基础上,上海微电子积极参与193nm波长辐射氩氦浸没式光刻技术的开发,该技术应覆盖从45nm到最大22nm的整个规格工艺范围。

虽然该机型尚未达到NXT 1980Di机型的DUV光刻机水平,但足以显示中国自主研发光刻机的决心和实力。

为了在紫外光刻领域赶上国际顶尖水平,中国显然需要投入更多的精力和时间。

美国*** 要求 ASML

根据ASML的官方披露,我们预计取消美国出口许可证和新实施的出口管制措施不会对我们2023年的财务状况产生难以承受的影响。

在此基础上,美国**在前段时间与ASML的深入对话中,进一步明确了其出口管制的原则和影响。

特别是2023年10月17日发布的最新出口管制令,明确禁止将某些中高端深紫外(UV)浸没式光刻机型转让给某些特别先进的晶圆厂**。

在这方面,ASML还强调,它将继续履行其承诺,遵守其业务所在国家的所有适用法律和法规,特别是出口管制法规。

还有报道称,就在ASML正式声明前几个小时,美国**人员甚至上门谈判,敦促ASML立即停止向中国客户运送他们安排的一些机械设备。

需要注意的是,所谓的DUV光刻实际上用于制造28nm及以下工艺更成熟的芯片。

根据科学原理,这种光刻机经过多次生产可以生产10纳米芯片,主要制造商包括荷兰的ASML和日本的尼康、佳能等知名企业。

随着下一代半导体制造工艺向5nm及以下演进,EUV技术将成为新兴光刻和先进工艺加工的关键要素,特别是在设计具有7nm和子制造工艺的LSI时,荷兰的ASML仍然是世界上唯一的此类设备供应商。

总体而言,对ASML设备出口的严格限制可能会对全球半导体行业产生深远的影响。

浸没式光刻机不可用。

早期,由于美国严格的政策禁止ASML向中国大陆出售其极紫外(EUV)光刻机,中国大陆的半导体制造公司一直无法使用EUV光刻机作为关键设备。

在此期间,美国继续加大力度封锁中国大陆的逻辑集成电路加工技术,使其保持在14纳米水平,进而与日本、荷兰结成联盟,共同加强对光刻机出口的控制。

日本明确表示,所有采用浸没式光刻原理的机器都不能销往中国; 荷兰公司ASML也宣布,所有浸没式光刻产品中只有一种,NXT:1985DI型号有资格出口,它是世界上第一个适用于J&J(JPEG)工艺技术的光刻系统。

随后的事态发展表明,自2023年10月以来,美国再次收紧收购政策,导致ASML唯一的NXT:1985DI光刻机也被列入出口禁令名单,无法再运往中国大陆。

阿斯梅尔也坦言,尽管困难重重,但凭借自身的专业能力,同年获得了相关牌照,目前各项工作正在进行中,预计近期可在中国大陆销售全系列浸没式光刻机(包括DUV和EUV型)。

鉴于2024年将是新政策实施的起点,因此有理由认为,从该年起,ASML将正式停止向大陆市场供应浸没式DUV光刻机和EUV光刻机。

具体来说,今年以来,中国大陆的ASML企业纷纷引进了大量的光刻机,据统计,截至11月底,ASML企业在中国大陆进口的光刻机数量已超过500亿元,与去年同期相比,进口额增长了近3倍。 显然,中国大陆正在积极利用ASML的沉浸式光刻机销售窗口进行大规模购买和预订,毕竟这样的机会从明年开始就很难复制了。

中国的核心永远不会弯曲。

近年来,美国以中国5G技术为切入点,追逐中国尖端技术可能对其构成潜在威胁的风影,随后开始采取各种手段对中国相关企业施压打压。

从过去对中国芯片产业的最初封锁,到后来与日本、韩国和荷兰结盟"四方联盟"甚至终于达到了"三方保密协议",美国逐步加大了对中国芯片产业的制裁力度,到现在为止,美国能用到的控制措施几乎都暴露无遗。 美国拥有几乎所有的控制权。

在美国,包括上游半导体原材料和软件开发商、上游光刻机生产商以及下游晶圆制造和代工厂在内的几个细分市场受到严格限制。

因此,我们必须坚持自力更生、自强不息,中国正在全力推广自主研发的光刻技术,以尽快实现该领域的国产替代。 人们必须认识到,如果我们国家能够克服这一症结,也将意味着美国科技霸权的彻底崩溃。

从大局看,我个人认为,美国对中国芯片产业的遏制,可以成为推动中国科技领域发展进步的契机和动力。

美国之所以从整个上下游产业链的角度对中国进行全面遏制,主要是为了阻止中国半导体产业向高端产品发展,而此次政变最突出的目标之一就是中国的中芯国际集成电路制造业。

鉴于中芯国际是中国最具竞争力的饼干生产商,它跻身全球前五。

结论。 目前,大中华区半导体制造业已成功与全球多个国家和地区建立了稳定和谐的合作关系,如与欧洲知名企业英飞凌、意法半导体的密切合作,与日本知名厂商东芝、村田的深度合作,当然还有与韩国三星电子、SK Innovation Co.的深度合作

如果在此基础上,能够为光刻机等关键设备找到更多样化的替代选择和一流的资源,无疑将增强大中华区半导体制造业的抗风险能力,提高市场竞争力。

基于以上分析,我们可以看到,这些信息对大中华区半导体制造业的影响极其复杂,既有负意义,也有积极意义; 挑战严峻,但机遇难得。

为此,我们要求业界同仁在这个关键时期保持冷静的头脑,既不要过于消极悲观,也不要盲目自信和傲慢,只有坚定的信念,加大自主技术的研发,扩大对外交流与合作的范围,追求半导体产业的高水平发展, 才能在这个竞争激烈的市场环境中逆流而上,赢得更大的胜利。

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