荷兰站队，ASML发表紧急声明，中芯国际表示不会受到影响。
1月底，美国、日本、荷兰就光刻机系统限制达成协议，三方重新调整光刻机出货规则，同时实施一系列限制等。 荷兰和日本已经就该协议表达了立场，预计荷兰将在今年夏天正式实施限制，日本也将透露协议内容。
此后，ASML的紧急立场强调了限制的范围，其中不包括所有已建立的晶圆制造设备。
晶圆制造需要使用光刻技术，荷兰公司ASML在全球光刻市场一直占据主导地位。 日本光刻机制造商尼康和佳能也不甘示弱，占据了低端光刻机市场的主要份额。
为了遏制高端芯片生产领域的竞争，美国两次调整光刻机的运输规则，并与日本、荷兰达成协议。
据ASML报道，前段时间有公告称，三方已达成协议，可能涉及光刻系统等设备限制，协议落地需要时间，不会影响2024年的营收。 目前，荷兰、日本和ASML已经公布了协议的相关信息。
前段时间，荷兰表示已决定收紧对中国晶圆制造设备**的限制，出口管制的重点是先进的晶圆制造技术，包括浸没式光刻系统。 荷兰还强调，该协议已于前段时间实施。
日方透露了协议的细节，包括无法向中国大陆维修设备。 这相当于切断了售后服务，把光刻机当成"一次性"材料。
荷兰正式"偏袒"，从荷兰人的角度来看，要么影响客户的订购意愿。 这不是ASML希望看到的，所以作为业内人士，ASML不能保持沉默。
ASML前段时间在紧急声明中表示："新的出口管制并不涵盖所有浸没式光刻系统，而仅涵盖所谓的'最先进的技术'浸没式光刻系统"。此外，ASML还强调："不太先进的浸没式光刻系统已经很好地满足了成熟的、以工艺为导向的客户的需求"。
在国外，美国、日本、荷兰等国家将全面限制DUV光刻机的出货量，不允许这种深紫外光刻系统自由销售。 但实际上，DUV光刻也有工艺上的区别，按光源可分为KRF、ARF、ARFI。
其中，ARFI（浸没式光刻）是最高工艺，但分为多种设备型号，从低工艺到高工艺，分别是TwinsCannXT：1980Di、TwinsCannXT：2000i、TwinscannXT：2050i。
ASML在声明中提到，NXT：2000i及以后的浸没式光刻系统将受到出口管制。 换句话说，在整个浸没式光刻工艺中，只有NXT：1980DI可以成功向公众介绍**。
根据ASML的官方介绍，NXT：1980DI可以应用于小于等于38nm的工艺，更不用说38nm了，如果多次使用，可以生产出28nm和14nm等芯片产品。 即使理论上希望达到7纳米，也只有有限的分辨率会导致晶圆良率下降，而且体积越大，成本越高，难度越大。
ASML的紧急声明告知我们不发货的范围，并专注于能够满足成熟芯片客户需求的低工艺光刻机。 在中国大陆市场，中芯国际是唯一一家从ASML大量采购光刻机的制造商。
中芯国际目前有四座12英寸晶圆厂在建，都需要ASML的浸没式光刻机。 如果美国、日本和荷兰达成三方协议，中芯国际将能够购买浸没式光刻设备，估计只有NXT：1980DI型号。
不过，这似乎并没有对中芯国际产生影响，中芯国际在得知荷兰预计将在夏季实施这些规定后也发表了正式声明。 中芯国际员工对外界表示："目前，公司生产经营一切正常，暂未收到相关通知。 "
可以看出，中芯国际目前的运行条件还是正常的，就未来可能实施的光刻系统新规而言，仅NXT：1980DI就可以保证生产线的正常运行，而不会受到任何影响。 一方面，中芯国际最高的量产工艺是14nm，NXT：1980DI也可以生产14nm晶圆。
另一方面，ASML今年的收入不会受到影响，这意味着仍有时间增加设备出货量，并努力满足中芯国际未来的设备需求。
荷兰、日本、ASML和中芯国际已发出信息，告知其实施计划以及协议内容限制范围。 当然，在协议正式实施之前，是否会有变数还有待观察。
半导体产业链继续站出来反对语音规则，如果能增加协议落地的难度，那就最好了。
另一方面，我们也应该意识到，美国寄希望于时光倒流是不现实的，过去的案例告诉我们，核心技术还得靠自己的研发，希望国产光刻机有朝一日能够实现突破，真正摆脱规则的束缚。