俄罗斯宣布了突围计划，荷兰ASML措手不及，全面对抗开始了。
俄罗斯前段时间宣布，2024年开始自主生产350纳米光刻机，2024年开始量产130纳米光刻机。 此举肯定会对荷兰光刻巨头ASML产生影响。
有分析认为，在中国和美国"芯片大战"在背景下，俄罗斯此举意味着全球光刻机行业将全面发展"突破"，行业竞争将更加激烈。 本文将深入分析此次事件对光刻机行业格局的影响。
目标是实现俄罗斯自主研发的光刻技术。
俄罗斯计划于2024年实现350nm光刻技术的自主生产，2024年实现130nm光刻技术的量产。
这两个目标的技术难度不同。
350nm光刻技术比较成熟，关键是光源系统的稳定生产。 俄罗斯选择了自己研发的X射线作为第一光源，通过透射和聚焦一组精心设计的透镜对晶圆进行蚀刻。
拥有国家精密测控体系，350nm光刻技术性能可接近主流水平。
130nm光刻必须解决波长更短、光学设计更复杂的技术难题。 俄罗斯有可能引进相关技术，通过模仿和改进，逐步掌握完整的130nm量产工艺。
总的来说，俄罗斯的技术路线是现实可行的。 通过自主研发和国际合作，俄罗斯有望在2-3年内克服光刻技术壁垒，形成自给自足的产业链。
ASML的市场挑战和对策。
俄罗斯自己的光刻技术不能不影响荷兰公司ASML的利益。
多年来，ASML几乎垄断了全球高端光刻机市场，尤其是在EUV**机领域。 但现在，中国咄咄逼人的布局和俄罗斯宣布的突破，意味着ASML的主导地位将受到严峻考验。
具体来说，中国的28nm型号即将交付，而俄罗斯的130nm产品也将在2024年上市。
这两股新生力量将直接抢夺ASML的老客户群。 更严重的是，光刻技术在俄罗斯的成功开发，很可能会打破ASML对底层技术的垄断。
面对新形势，ASML必须调整市场策略。 首先，加大研发投入，确保技术优势;其次，减少**，避免客户流失;三是拓展新兴市场，腾出发展空间。
只有顺势而为，ASML才能在激烈的竞争中保持领先地位。
光刻行业的必然性和全球影响力。
事实上，俄罗斯的光刻机生产就是这个行业"美化"这一趋势的重要进展。
在美国利用出口管制打压中国芯片产业的情况下，中俄两国积极进行本土技术设计，应该能够打破美国的技术封锁。
由此可见，在全球化时代，一个国家很难完全垄断某个领域的技术。 全球光刻行业"突破"这也将重塑全球硅片产业链的力量平衡势在必行。
长期影响是，中国和俄罗斯将不再依赖进口进行高端芯片制造。 两国还将在光刻机领域形成新的竞争格局。 全球半导体产业将进入多极化的新时代。
对于俄罗斯宣布自主研发的光刻技术，有业内人士认为，这是对俄罗斯科技实力的进一步宣传，将有助于打破西方对关键技术的垄断。 有业内人士认为，俄罗斯科技实力仍有差距，能否成功上榜仍存在不确定性。 有业内人士认为，这将加剧全球芯片领域的激烈竞争，未必是一件好事。
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