日本企业已加入制裁，中国企业表示已实现关键材料量产

去年10月，美国颁布了更广泛的晶圆限制规则，这使得对基于GAA的EDA软件和其他各种半导体材料的限制更加严重。

经过这么多年的规则实施，美国能打出的牌基本都出来了，于是开始吸引其他国家参与限制，其中日美达成了加入制裁的协议，切断了芯片的关键材料，中国企业官方表示：我们有大规模生产。

世界各国和地区在半导体产业链中各司其职，提供自己的先进技术，助力芯片产业发展。例如，美国提供EDA工业软件，荷兰ASML提供光刻技术，日本提供光刻胶材料。

美国、日本、荷兰这三个国家，各自在各自领域都占据着极其重要的产业影响力，已经达到了垄断的程度。因此，当美国、日本和荷兰达成协议时，恐怕会引起全球半导体领域的洗牌。

荷兰已经明确切断了DUV光刻机，当然，并不是所有的DUV光刻机都会受到限制，减少设备种类的过程很可能会继续下去。

日本也有光刻机巨头，尼康和佳能早已成名，不仅是相机巨头，也是光刻机行业的佼佼者。从现在开始，尼康似乎也会卷入镇压行动。除了光刻技术外，日本的光刻胶材料运输也将受到限制。虽然日本的光刻技术很强，但更强的是光刻胶材料。

什么是光刻胶材料？它在芯片制造链中扮演什么角色？从本质上讲，光刻胶是一种光敏化学材料，在光刻过程中，它显示晶圆的图案，然后将图案复制到晶圆表面，同时保护基板。

下一步是使用切割机将晶圆切割成晶圆。在整个光刻阶段，应用光刻胶的成本并不高，但影响四到两千公斤，这是晶圆所需的基本材料。

信越化学、东京化学工业、JRS、富士电子四家日本企业占据了全球72%的市场份额，其中JRS的EUV光刻胶有望达到垄断水平，其余日本厂商分别对低量程KRF和高量程ARF有较大影响。

需要注意的是，光刻胶还有一个过程，从低到高，分别是G线、I线、KRF、ARF、EUV。由于G线和I线光刻胶水平较低，国内厂家已经掌握了相关的生产和制备技术，日本不必自以为是。

主要局限于KRF、ARF、EUV光刻胶领域，尤其对KRF适应性高。

据报道，国内一家存储制造商的日本KRF光刻胶已经缺货。如果没有日本光刻胶制造商的供应，可能会影响正常的营业秩序。

但是，没有必要太担心，因为中国公司主导着KRF光刻胶的大规模生产能力。据精锐电工材料在互动平台上透露，旗下KRF光刻胶产品的分辨率已达到025-0.13微米，已通过一些重要的客户测试，并已量产部分品种的高品质KRF光刻胶。

这无疑是个好消息，KRF光刻胶虽然不是最先进的材料，但可以达到量产的水平，足以满足国内大多数晶圆厂商的需求。除了KRF光刻胶，国内另一大厂商南大光电也在研究ARF光刻胶。

前段时间，南大光电在互动平台上表示，公司已经开发出一种ARF光刻胶，可应用于90nm-28nm工艺。而且有少量**。

再往下ARF光刻胶是EUV光刻胶，它可以适应更高的EUV光刻工艺，用于芯片的批量生产。不过，在这方面，国内厂商仍处于研发过程中，没有重大突破的消息。

当然，这也是正常的。国内半导体产业起步较晚，十几年前才真正重视产业发展。甚至很多芯片巨头的发展历史只有20年，相比之下，一些国外巨头的发展历史长达半个世纪，有些企业背后有全球资源的帮助。

因此，令晶瑞材料等国内厂商能够实现KRF光刻胶的量产也令人欣慰，更先进的ARF也处于研发阶段，逐步推进量产。

至于EUV光刻胶，在掌握量产之前，我们需要不断积累研发经验，并相信时机成熟时，一切都会水到渠成。

日本企业纷纷加入美国制裁的行列，光刻胶无疑将成为日本最关键的限制措施，荷兰ASML光刻公司也将联合调整出货规则。

在这一点上，中国人民必须打破幻想，不能坐以待西方回头。只有开发自己的产品，才能为积极对话创造条件。而一旦有国产产品可以替代，西方国家就迫不及待地送出去，否则产品就真的卖不出去了。