太狠了！ 项立刚：台积电持续升级芯片制造工艺，震撼**？
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过去几年，市场上主流的7nm和5nm现在都是3nm，而台积电、三星等公司可能在2025年实现2nm的规模化生产。
面对这一巨大的技术进步，那些在制造技术上精益求精的客户自然跃跃欲试，美国也频频修订相关法规，将更多高端制造技术纳入控制范围。 但芯片制造技术能否带来巨大进步？ 7 nm以下的芯片需要EUV光刻机才能生产？
对此，著名传播学者项立刚曾表示：台积电不断改进芯片制程，真是惊人**！
争夺尖端技术。
7nm是一个障碍，6nm和5nm是最先进的技术，10nm和14nm是最先进的技术。 至于 7 nm 以上的工艺，一般认为只有 ASML 的 EUV 光刻机才能生产。
主要原因是美国等欧美国家对EUV光刻机的供应进行了严格控制，目前国内还没有EUV光刻设备，因此很难制造7nm及以下的芯片。 随着时间的流逝，越来越多的人认为EUV光刻机是制造高端芯片不可或缺的一部分，这也是行业内的潜规则。
这并不是一件奇怪的事情，一个好的设备可以大大提高产品的良品率。 因此，一旦台积电和三星开始尝试2nm工艺，目前的EUV光刻技术已经无法满足需求，需要更多的精密仪器来制造。
ASML拿出了最新一代的EUV光刻机，成本高达27亿元，重达150吨，不仅价格昂贵，而且价格不菲。 即便如此，高分辨率NA EUV光刻机仍然短缺，仅订购了10-20台。
当然，中国不可能生产出高数值孔径的EUV光刻机，这是否意味着我们在高端工艺上输掉了竞争？ 项立刚的话，让他如梦似幻地醒了过来。
项立刚揭穿了骗局。
项立刚指出，台积电的所作所为对整个半导体行业产生了很大的影响，他们觉得，如果想把工艺水平提高到7纳米，就需要一台非常先进的EUV光刻机，这是很好的发展方式，也是制约中国发展的手段。
项立刚也指出，台积电的工艺升级其实是一场闹剧，他还引用了中国将量产5纳米芯片的报道，如果中国不使用极紫外光刻机，这怎么可能实现？
从向立刚的话中可以看出，7nm以上的光刻机不一定非要用EUV，台积电提到的5nm和3nm工艺简直就是彻头彻尾的谎言。
项立刚把责任推给了台积电，台积电虽然正在开发5纳米和3纳米工艺，但通过DUV光刻机，他们完全可以生产出满足市场需求的产品。 项立刚揭穿的谎言是真的吗？
华为推出了麒麟 9000，并在 Mate60 上大受欢迎，而麒麟 9000 的处理器是在中国生产的，没有使用美国和 EUV 光刻技术。 不过，麒麟9000的平滑度并不逊色于台积电的5纳米工艺。
也许用不了多久，中国就会利用目前的技术来实现自己的梦想。
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