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ASML最新EUV光刻机：价值27亿元，重150吨，需要250人安装，共计180天。
众所周知，ASML是世界上唯一一家能够生产EUV光刻机的公司。
目前，ASML的外部光刻实际上是na = 033 NA光刻，即低数值孔径光刻，一般用于3nm-7nm晶圆的光刻。
而当芯片小于3nm时，即2nm，14nm、1nm，需要采用高数值孔径光刻，即光刻Na=055、型号必须为 exe：5200。
不久前，ASML终于向英特尔交付了世界上第一台高数值孔径光刻机EXE：5200。
这台光刻机有多可怕？ 首先，它的标价高达 35亿欧元（约合27亿卢比）。 更重要的是，它几乎与双层巴士一样大，重达 150 吨或 150,000 公斤。
这种类型的光刻机在完全安装后不能发货，而是拆卸成零件并运送到客户现场然后重新组装。
运送需要 250 个箱子，需要 250 名工程师安装，然后在工地上组装和安装所有东西需要 6 个月的时间。
因此，尽管ASML向英特尔交付了世界上第一台高数值孔径EUV光刻机，但实际上它只是将其运送给英特尔，而下一台光刻机至少在半年后正式投入使用。
按照英特尔的计划，自己的英特尔2制程（即2nm芯片）要到2025年才会生产出来，所以这款光刻机的生效运行日期也将是2025年。
此前，ASML总裁曾表示，当数值孔径达到0在55岁时，这可能是暂时的结束，甚至可能出现最新一代的EUV光刻机，ASML表示，在目前的技术水平下，它们无法再增加数值孔径。
目前，EUV光刻提高分辨率有三个方向：一是降低光源的波长，但135纳米的极紫外线（EUV）已经是极限，无法降低。 二是增加数值孔径，但是这一步也被挡住了，asml表示不能增加，055 是极限。
此外，还存在更新光刻工艺因素的问题，但目前的技术也正在接近实现这一目标的物理极限。
短期来看，这三个方向是无奈的，即EUV光刻技术的分辨率暂时无法提高，那么EUV光刻技术下一步的发展将走向何方呢？ 没有人能说。
那么，以佳能的NIL纳米压印技术为例，它是否会取代EUV光刻技术，成为未来的主流呢？