日前，ASML在荷兰展示了其最新一代的EUV光刻机，也就是High NA EUV光刻机，暂时才到英特尔的芯片厂，然后台积电和三星将购买世界上最强大的光刻机。 以前，我们只知道ASML最新的光刻机非常昂贵，但这次演示让更多的人意识到了ASML High NA EUV光刻机的其他一些功能。
首先，在**上，ASML目前的对外售价为35亿欧元，即27亿元一套。 这当然是天文数字，普通的芯片代工厂甚至不敢买。 而且从技术角度来看，这就要求芯片代工厂在芯片工艺上有非常高的造诣，如果要生产5nm以上的芯片，使用这个系统多少就大于损失了。 所以目前，英特尔、台积电和三星都希望利用这个系统来生产2nm甚至更先进的芯片。
在性能方面，最新的High-NA EUV器件可以在8nm厚的半导体上打印电路，即17次。 电路越细，芯片上可以安装的晶体管就越多，当然性能和功耗也就越好。 该系统于去年年底抵达英特尔位于俄勒冈州的D1X工厂，英特尔预计将于明年开始生产该系统，还有很多工作要做。
原因是系统太大了。 据ASML官员称，该系统重达150,000公斤，需要250个集装箱，250名工程师，需要六个月的时间才能完成组装。 所以这次ASML也是大方的展示自己最新的技术成果，不用担心谁会偷或复制，因为这个系统太复杂了，而且很多部件也是高精度制造的结果，就算是想复制，也没有办法。
ASML表示，目前的AI需要大量的计算能力和数据存储，如果没有ASML，这是不可能的，这也是该公司业务的主要驱动力。 目前，除了去年12月底英特尔向俄勒冈工厂发货的一台高数值位EUV光刻机外，ASML上个季度还收到了台积电和三星的订单，台积电、英特尔、三星都看好该技术。
至于上一代EUV光刻机，技术也不落后，依然可以生产3nm芯片，未来大量7nm到3nm的芯片明显比上一代EUV光刻机性价比更高，性价比更低。 当然，不管ASML是最新款还是上一代EUV光刻机，都不能卖到中国，就算国内厂商看到ASML的详细展示，也绝对不可能恢复和复制。