日本推出纳米压印设备，中国研究石墨烯半导体，ASML时代或将要结束？
经过几十年传统光刻技术的变革，荷兰光刻巨头ASML仍然遥遥领先，称霸全球。
然而，ASML在世界上的垄断地位，却成为美国等西方国家在科技领域肆意打压其他国家科技成果的重要手段，引起了各国的不满。
毫无疑问，世界现在需要一种能够真正打破ASML垄断，打破EUV光刻的光刻技术"行业明珠"芯片技术。
所以，再重复三遍：工业珍珠是紧急的！ 工业明珠处于紧急状态！ 工业明珠处于紧急状态！ 工业明珠处于紧急状态！ 工业明珠处于紧急状态！ 工业明珠处于危机之中，工业明珠处于危机之中。
网友怒骂公关：不努力，这颗钻石就要掉下来了！
继纳米压印机在日本推出后，中国也开始开发石墨烯半导体，以对抗光刻技术。 ASML时代结束了吗？
日本纳米压印机。
前段时间，日本半导体制造商佳能发布了纳米压印设备，现在可以满足5nm工艺制造最先进的逻辑半导体所需的工艺技术。 佳能表示，由于掩模面板的改进，未来也有望实现2纳米工艺。
纳米压印技术是一种利用衬底在半导体材料表面形成纳米级图案的方法，在半导体领域得到了广泛的应用。
芯片光刻是集成电路制造中最重要的工艺，它将光源投射到光敏层上以形成所需的图案。
另一方面，纳米压印技术可以在光刻胶层上形成纳米级图案，以提高图案的分辨率。
采用纳米压印技术可以实现高精度光刻芯片，提高芯片集成度，提高芯片性能。 此外，纳米压印技术还具有效率高、成本低等优点。
继日本之后，中国在石墨烯研究方面取得了突破性进展。
中国借鉴了日本在纳米压印印刷方面的成功经验，走上了国产化的新道路。
天津大学团队采用特殊的熔融方法在SiC晶片上生长石墨烯，并成功将石墨烯与SiC晶体结合，并取得了重要成果。
这也是全球首款基于石墨烯的功能半导体器件，彰显了中国的科技实力。
石墨烯是由单层碳原子组成的二维晶体材料，具有优异的电学、热学和机械性能，在半导体领域具有广阔的应用前景。
石墨烯因其良好的导电性、高载流子迁移率和良好的化学稳定性而广泛应用于电极、掩模、传感器和柔性电子器件中。
这一突破将为中国未来的半导体器件性能提升和新材料研发带来新的机遇。
目前，迈笠大学团队仍处于理论探索阶段，距离大规模应用还有很长的路要走，但中国芯普已经迈出了第一步。
从大型飞机到小型芯片，这些西方"工业珍珠"我们一个接一个地被我们、ASML以及这个时代的其他美国和西方巨头打倒在地。