成本减半！佳能的纳米压印技术已经能够生产出与ASML相媲美的2nm半导体

据日本报道，佳能针对半导体电路光刻工艺推出了自主研发的纳米压印技术，该技术可大幅降低成本和耗电，这是半导体厂商高度期待的，目前可生产2nm产品。

据佳能半导体设备业务总监岩本一德介绍，纳米压印是将半导体电路图的掩模压印在晶圆上，只需在晶圆上压印一次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或三维电路，如果对掩模进行改进，甚至可以生产出2nm的产品。

纳米压印的特点是设备结构简单，与传统的雕刻电路方法相比，纳米压印的功耗可以降低到1：10，设备会便宜很多。 据估计，单次纳米压印光刻工艺的成本可以降低到传统光刻设备的一半。

岩本一德还介绍，2024年佳能与铠侠、大日本印刷合作开发，纳米压印技术在量产方面的实际应用已经备受瞩目，可以卖给客户。

2024年前后，日本和尼康占据了世界光刻设备市场的很大一部分，但随着荷兰SAML公司开发EUV光刻设备，市场立即重新洗牌，EUV成为尖端半导体光刻的主流，佳能也失去了大部分市场。

现在，佳能已经磨练了十年的剑，推出了纳米压印技术，有一种重新夺回光刻市场的立场。 不过，ASML也向英特尔交付了第一台2nm EUV光刻机，短期内，佳能希望依靠纳米压印技术来对抗ASML，可能希望不大。