ASML末日狂欢：EUV光刻机或许难以拥有下一代产品，前景令人担忧。
2023年对ASML来说是疯狂的一年，光刻机销售额为276亿欧元，同比增长30%，净利润为78亿欧元，同比增长43%，毛利率为513%。
2023年，ASML销售EUV光刻机53台，浸没式DUV光刻机125台，普通干式DUV光刻机32台，KRIF光刻机184台，L-Line光刻机55台，各类型光刻机销量均超过2022年。
而对于2024年，ASML并不乐观，称其预期与2023年大致相同。
事实上，2024 年应该是 ASML 大幅增长的一年，那么为什么不更多呢？ 究其原因，ASML的EUV光刻技术已经到了极限，很难拥有下一代，前进的道路被堵住了。
目前，ASML最大的收入**实际上是EUV光刻机。 以 2023 年为例，53 台 EUV 光刻机，每台价值约 18亿元，贡献近100亿元，占三分之一。
目前销售的主要EUV光刻机为NA=033 台机器。 Na 也称为数值孔径，也称为低 Na 系统，因为 033 是一个低数值孔径。
光刻机能够实现 26 纳米的最小金属间距和 25-30 纳米的端到端近似互连空间间距，理想情况下能够制造 3 纳米晶圆。
na=0.55光刻技术具有更大的数值孔径（称为HiGT-NA系统），可实现16纳米的最小金属间距，从而实现亚2纳米甚至1纳米的工艺节点。
但是，这台光刻机的 na=055、成本高，达到38亿元，比上一代**翻了一番，同时，ASML表示，目前的产能还很差，一年只能生产不到10台，所以ASML对此并不是特别看好，毕竟目前的光刻机033Na，也可以生产2nm芯片。
只有2家3nm芯片厂，原来的EUV光刻机都不会被淘汰，现在NA=055的光刻机肯定卖得不是特别好，所以对2024年不是很看好，如果能保持2023年的营收就好了。
事实上，ASML最大的问题还没有到来，因为当NA增加到0时在55时，数值孔径达到极限，无法进一步增加。
至于其他提高紫外光刻分辨率的方向，如降低光源波长、提高光刻工艺系数等，基本已经达到极限，短期内无法改进。
因此，去年，ASML负责该技术的联席CEO表示，ASML很难在EUV光刻技术上取得任何进展，即NA=055 的 EUV 光刻可能是最后一代，将于 2024 年退役。
因此，当EUV光刻机无法再升级时，ASML就在那里"计算日期"也许现在可以卖掉，但未来呢？
当然，也有人认为，或许EUV光刻技术还能往前走，只是目前看不清方向，但缺乏方向是企业最大的不确定性，没有确定就没有未来，企业该怎么办？