2nm光刻机量产英特尔抢购了 6 台
芯片制造离不开光刻机，光刻机就像一台超精密打印机，可以在硅片上“打印”集成电路的图案。 随着芯片工艺的缩小，对光刻机分辨率的要求也越来越高。 近日，全球最大的光刻机制造商ASML向英特尔交付了全球首台2nm工艺光刻机。 这种光刻机在英文中称为高数值孔径极紫外光刻机，或高数值孔径EUV。
这款2nm光刻机与上一代5nm光刻机相比，主要改进是增加了数值孔径。 根据光学原理，增加数值孔径可以提高光学系统的光学分辨率。 通过多年的技术积累，ASML终于将2nm光刻机的数值孔径从033 比 055、根据光学公式，理论分辨率已从13 nm提高到8 nm。 这对于 2nm 甚至 1nm 芯片工艺来说已经足够了。
明年，ASML计划量产10台2nm光刻机。 其中，英特尔抢购了6台，相当于量产机总数的60%。 此前，台积电已经抢购了一半的5nm光刻机，而这一次轮到英特尔“独霸”了。 英特尔**每台2nm光刻机高达3亿美元，6台成本超过18亿美元，如果算上后续的安装、调试和维护成本，估计将超过20亿美元。 对于英特尔来说，巨额投资是值得的，因为它可以重新夺回在半导体制造领域的领先地位，这已被台积电和三星超越。
英特尔正在努力重新夺回领先优势台积电很难在美国建厂
30 多年来，英特尔一直是半导体制造领域的全球领导者。 但近年来，台积电和三星的崛起，让英特尔失去了领先地位。 2024年，三星首次超越英特尔，成为全球半导体销量第一。 2024年，台积电的7nm工艺也击败了英特尔的14nm工艺，这对英特尔来说是一个沉重的打击。
为了重新夺回半导体制造的头把交椅，英特尔决心在2nm工艺的开发上投入巨资。 这一次，6台2nm光刻机被ASML抢购一空，这是英特尔重新夺回领先地位的决心的具体体现。 英特尔希望依靠这批全球最先进的光刻设备，在2nm芯片的量产上击败台积电和三星。
与英特尔争夺光刻机的决心形成鲜明对比的是，台积电在美国建厂时遇到了困难。 2020 年，台积电宣布投资 120 亿美元，在美国亚利桑那州建造一座 5nm 工艺晶圆厂。 后来，美国通过了《芯片法案》，台积电将投资增加到400亿美元，准备再建一个3nm制程工厂。
然而，台积电在美国建厂缓慢，遇到了严重的基础设施问题和人员管理问题。 更致命的是，台积电只获得了53亿美元的补贴，远低于英特尔等美国公司。 设备和资金的匮乏，使得台积电难以在美国建厂。 这与英特尔全力以赴的态度形成鲜明对比。
三星争先恐后地抢购设备力争五年内超越台积电
英特尔并不是唯一一家想要重新夺回头把交椅的公司，三星也曾公开表示要在未来5年内超越台积电。 三星一直是全球最大的存储芯片制造商，但在逻辑芯片领域一直落后于台积电。 现在三星看到了机会，准备利用台积电在美国建厂失败的机会，全力追赶。
三星宣布了一项巨额投资计划，在芯片制造、存储和存储领域的总投资高达171万亿韩元，折合人民币约合人民币9422亿元。 这是一个天文数字的投资。 资本投入是硬件的基础，三星也在软实力上下功夫，其2nm制程力求与台积电同步。
当台积电开始量产2nm芯片时，三星也计划完成2nm量产的准备工作，两家公司将在同一起点展开激烈竞争。 为此，三星也在积极争取ASML的2nm光刻设备。 三星也通过降价来吸引客户，并已经赢得了台积电的一些订单。
相比之下，台积电在美国建厂缓慢，设备和资金都不足。 三星的本土产能建设显然更具优势。 未来，我们将拭目以待，看看三星是否能够如愿以偿地在2nm芯片上击败台积电。 然而，可以看出，台积电的领先地位正面临着巨大的压力和挑战。 100 帮助计划