日本企业绕过EUV光刻机制造2nm压印设备，拒绝出口中国，引起关注。
在ASML的压制下，佳能可以在弯道上超车，成为新一代光刻机的先驱。
作为前国际光刻机市场"霸王"上世纪80年代，以佳能为代表的日本企业在这一领域声名鹊起，仅佳能就占据了全球近40%的份额。 不过，由于ASML的EUV光刻机的出现，后来，日本的光刻机走下坡路，直到前段时间，日本的**《朝日新闻》传来消息，佳能在10年内又研发出纳米压印技术，芯片工艺可低至2纳米。
这个结果足以震惊整个半导体行业，在此之前，所有的7nm芯片制造都绕不开EUV光刻技术，全球只有ASML有能力生产，佳能此举相当于打破了其垄断地位，直接改写了市场标准。 外媒的一篇好文章直言不讳地说：这一次，轮到ASML恐慌了。
它不需要光刻技术，还能生产芯片吗？
目前，世界上具备光刻技术生产能力的厂家并不多，只有荷兰、中国、日本、美国、韩国，其中荷兰的光刻精度第一。
据国际半导体协会（SEMI）统计，目前，在集成电路光刻机领域，荷兰的ASML、日本的佳能和尼康、中国的上海微电子是四大厂商。 ASML占据82家佳能和尼康各占4%的市场份额，各占10%2% 和 765%的市场份额，排在最后两位，上海微电子的市场占有率接近0%。 此外，如果只考虑7nm或更小的EUV光刻机，ASML将占据全部份额。
为了垄断这项关键技术，ASML已经与全球5000多家厂商达成了集团合作，因此并不担心其他厂商抢占市场，这也导致其他光刻机厂商无法走EUV光刻机的道路，只能转行。 例如，佳能多年来的研发一直专注于纳米压印技术，声称如果没有EUV光刻技术，就有可能生产出5纳米甚至更小的芯片，并进一步降低成本。
一台EUV光刻机的成本是12亿元人民币，10万个零件，400条线，2公里的导管，而且消耗了大量的能源，参考台积电的财务数据，去年的能源消耗量是1919亿千瓦时，深圳常住人口1800万，年用电量约1655亿度电，这意味着引入EUV光刻工艺的台积电年均能耗，足够深圳居民一年用电量。 相比之下，这家日本公司的纳米打印工艺可以降低40%的制造成本和90%的能耗，因此佳能依靠这种性能也就不足为奇了。
在弯道超车？我们的国家远远落后。
科技时报"digitimes"报道称，韩国SK海力士引进佳能纳米压印设备进行测试研发，预计该设备将于2024年量产3dN和闪存，佳能表示，这套雕刻精度为24~3.2nm，每小时可生产100多片晶圆，基本达到3DNAND的量产水平。
值得注意的是，由于日本几个月前高调宣布对华禁令，23件芯片制造设备将被列入出口管制清单，因此佳能的新印刷技术无法销往大陆。 不过，不用太担心，这个领域一直是索达伟业、天人微纳等国内芯片设备企业追求的热门技术之一，虽然目前还处于量产评估阶段，但从商业角度来看，已经触及了5nm级别。
近年来，我国产业结构从低端生产数量向高端技术质量转变，这样的例子数不胜数：今年前10个月，我国出口总额达到58243亿元，比上年增加885%。
中国制造"压倒性的。
虽然无法引进佳能的纳米压印技术，但它至少为中国半导体领域带来了新的思路和方法，相信未来中国企业会在这个行业分支上投入更多的研发力度，与世界同步。
国产光刻机最前沿负责人苏大伟公开表示："纳米压印光刻技术在集成电路和芯片制造领域的应用具有替代甚至超越传统光刻技术的潜力，我们正在主动进行布局。 "
中国制造业不断以技术自研为动力，不断扩大和完善，或许正如《人》所说：中国制造业早已不一样了。