2nm不需要EUV光刻机，荷兰ASML没能预料到，外媒：急着出货也就不足为奇了。
随着我国科技工业的快速发展，对光刻机的需求也越来越大。 作为全球最大的光刻需求市场，中国大陆市场对荷兰ASML等光刻巨头有着不可忽视的吸引力。 然而，由于美国禁止芯片制造，这些公司也面临着出口管制的压力。 近日，佳能宣布已经超越了5nm NIL工艺，预计到2024年实现2nm NIL工艺，这个消息连荷兰ASML都出手了！
NIL工艺是一种先进的技术，它不依赖于EUV光刻，避免了传统光刻技术在使用可见光或X射线对电路进行建模时面临的分辨率限制，而是使用极紫外光进行电路建模。 因此，NIL工艺可以生产出更薄的芯片，具有更高的性能和能源效率。 日本光刻巨头佳能一直致力于开发先进的NIL工艺，以获得更多的市场份额。
对于ASML来说，其EUV光刻机无疑是世界上最先进的光刻机之一，也是垄断其市场份额的关键因素之一。 然而，随着中国科技公司的崛起和日本企业的快速发展，ASML也面临着来自竞争对手的压力。 尤其是当佳能宣布将超越5nm NIL工艺时，ASML的地位也受到了威胁。 因为这意味着未来2nm芯片的生产将不再依赖EUV光刻技术，而ASML过去一直是该技术的独家供应商。
在这种情况下，ASML也不得不增加对中国客户的**。 这是因为中国市场已成为全球最大的光刻需求市场之一，中国科技公司正在加快从ASML购买光刻机的步伐。 为了保持市场份额，满足中国客户的需求，ASML也不得不加快出货速度，以满足大陆市场的需求，提前占领市场。
事实上，除了ASML和佳能，中国光刻机企业也在快速增长。 例如，高能离子注入机、6英寸碳化硅生产线、28纳米光刻设备等突破，不仅支撑了中国半导体产业的发展，也让我们看到了中国光刻企业的实力和潜力。
不过，虽然与荷兰ASML、日本佳能等国际巨头相比，中国光刻机企业取得了一些进步，但是我们的技术和实力还有很大的差距。 因此，我们必须不断加大研发力度和技术创新，提高核心竞争力，实现从中国制造到中国创造的端到端发展。
此外，还要加强产业链整合和国际合作。 半导体行业是一个高度全球化的行业，缺少一个环节就可能导致整个产业链的断裂。 因此，我们需要加强与国际企业的合作与交流，共同推动半导体产业的发展和创新"扼杀"！
最后，我们也要看到中国半导体产业发展的机遇和挑战。 随着5G、物联网、人工智能等新兴技术的快速发展和应用，半导体行业将迎来更广阔的市场和发展空间。 但是，我们也必须正视国际竞争、技术升级和知识产权保护的挑战。 只有不断努力和创新，才能在全球半导体市场拥有更多的话语权和主动权。