ASML正式遵守半导体出口管制，芯片对外援助全面暂停。
近年来，我国半导体产业发展迅速，各个领域都取得了技术进步。 例如，龙芯中科发布了龙芯3A6000芯片，在整体性能上接近英特尔第10代酷睿芯片。 例如，哈尔滨工业大学（HIT）团队研发的超高速精密激光干涉仪，可以为28nm光刻机的开发提供技术支持。
在这些技术进步中，华为是主要的存在。 从5nm麒麟9000量产到14nm EDA工具研发成功，华为一直引领着中国半导体技术的发展。
不幸的是，由于华为等许多国内公司都为半导体技术的进步做出了贡献，前美国担心这些公司会威胁到其霸权。 为此，前美国召集了一批走狗，打压华为等国内一些公司。
在前美国经过六轮打压后，华为自研的麒麟芯片没有代工厂，无法使用先进的EDA工具，购买的手机芯片不支持5G网络。
幸运的是，华为深厚的技术积累、充裕的现金流、广泛的业务范围和庞大的消费者基础并没有成为前美国打压的目标。 相反，华为2024年的营业收入突破6300亿元，仍是中国最大的民营企业。
当然，华为只是被前美国打压的公司之一，华为的综合实力很强，自然可以抵挡住前美国的打压，但其他公司面对前美国的打压却很弱。
据悉，在前美国打压的众多企业中，中芯国际很可能是受影响最大的企业之一。 2024年，中芯国际从荷兰ASML购买了一台EUV光刻机。 由于前美国国家的阻挠，ASML限制了这款顶级EUV光刻机的出货。 当时，ASML的中高端DUV光刻机仍能正常出货。
2023 年 2 月，美国将日本和荷兰拉进来"联盟"，从而限制了中国企业获得高端DUV光刻机。
美国为什么要撤出日本和荷兰这两个国家？据介绍，荷兰ASML公司是全球唯一一家可以生产EVU光刻机的厂家，但也有一些厂家可以生产先进的DUV光刻机。 日本的尼康和佳能在14nm-45nm的DUV光刻机市场也是小试。
换言之，如果中国企业想要获得先进的DUV设备，尼康、佳能和ASML都不能忽视它们。
不久前，日本正式启动了23项半导体设备出口管制，其中也包括14nm工艺光刻机。 此次出口管制将于7月23日，即本月23日正式实施。 届时，尼康、佳能等其他公司将难以获得高端光刻设备，难度将大大增加。
虽然日本有关部门表示，出口管制不针对第三方，但所有企业只要获得授权，都可以获得高端光刻机。 不过，从日本此前的举动来看，中国企业很可能无法获得14nm中高端光刻机的出口许可证。
而在6月底，荷兰当局也正式禁止半导体设备出口。 根据禁令，荷兰光刻机制造商将对14nm至45nm的中高端DUV设备实施出口管制。 与日本的出口管制一样，荷兰的出口管制不针对第三方，但希望获得14nm-45nmDUV光刻机的公司仍必须获得荷兰当局的授权。
出口管制将于9月1日生效，ASML已明确表示将在该日对14nm-45nmDUV器件实施出口管制。
感谢 asml 对"老"EUV光刻机出口有限制，中国企业这次可能很难获得14nm-45nm的DUV光刻机。 为此，一些外企表示，如果没有ASML先进的光刻机，中国企业将切断一切外援。
俗话说：相信你所拥有的总比不相信你不相信的要好。 从日本禁止从荷兰出口光刻机可以看出，寄希望于西方国家获得光刻机是不可取的。 只有脚踏实地的研发，集聚人才的管理方式，花钱的决心，务实低调的工作作风，才能实现光刻机的自主研发和生产。
幸运的是，上海微电子自有的28纳米光刻机已经进入验证阶段，如果一切顺利，这台28纳米光刻机将在未来几年内问世。 届时，我国将在28纳米光刻技术上取得突破，从而实现28纳米芯片的自主性。