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中国从荷兰进口光刻机猛增1000%！ 国产光刻机的前景是否岌岌可危？
1000%的激增：光刻机在中国和荷兰的引入，国产光刻机的未来是什么？
据中国海关数据显示，明年12月荷兰对中国大陆的光刻设备达到11亿元，同比增长1000%和67 月和 11 月的 2.2 亿要多得多。
此外，美国在半导体设备方面投资了400亿元人民币。
有人忍不住感叹，国外光刻机那么多，国产光刻机就没有希望了吗？
目前，国内的印刷技术还远远不能满足我们的需求。
由于使用的方法不同，晶圆和工艺类型更复杂，因此晶圆制造工艺也不同。
航空航天等领域对芯片的可靠性、安全性和抗辐射性提出了更高的要求，因此芯片工艺大多采用55nm、60nm甚至更高的工艺。
智能手机的芯片对性能、能耗、逻辑、人工智能、通信等提出了更高的要求，并且还集成了CPU、GPU、ISP、NPU等多种功能，因此一般不超过7nm。
目前，国内的微影技术已经能够量产，只有上海微电子有限公司***600微影技术才具备量产能力。
该工艺可用于90nm、110nm和280nm光刻工艺，多次**后可达到55nm，但良率会降低，泄漏风险较高。 这种新型测量技术在航空、工业控制等领域具有广阔的应用前景。
我们每天使用的手机**、计算机处理器、人工智能等，对光刻技术提出了更高的要求，而这只有ASML才能实现。
ASML 成立于 1984 年，是光刻技术的全球领导者，市场份额为 85%。 目前，公司拥有G-line、i-line、KRF、ARF、ARFI、极紫外等多种光刻技术。
我们了解到，经过多次曝光后，ARFI光刻（称为深紫外浸没式光刻）可以制造出7nm芯片。 华为的麒麟990和麒麟9000都使用了这种光刻技术。
目前市场上使用的最先进的光刻技术可以制造低于 7 nm 的芯片。 华为（华为）麒麟9000（麒麟9000），苹果（A17）A16（A16），高通（8Gen1）（骁龙8Gen1）（8Gen2）（芯片））。
不久前，ASML还推出了一款超高NA（High Digital Array）光刻机。 本项目开发的EUV光刻器件口径为033、分辨率为13nm，5nm和3nm尺寸的器件均可实现。 目前，全球领先的高数值孔径EUV光刻系统已拥有055 nm 和 8 nm 分辨率的能力使 2nm 和 1nm 极紫外光刻机的开发成为可能。
简而言之，ASML光刻适用于所有类型的晶圆。
更重要的是，ASML目前拥有全球90%以上的浸没式光刻设备，100%的光刻机都在这一领域。
所有芯片制造商都是合同制造商：台积电、三星、捷芯国际、中芯国际; IDM的主要制造商，如英特尔、三星、SK海力士、美光和长江，无一例外都使用ASML的微成像技术。
其他制造商也正在与ASML密切合作，以提高整个工艺的效率和晶圆的性能。
因此，如果国内光刻技术达不到目前的技术水平，购买ASML显然不是一个好主意。
中国对光刻的限制。
明年6月30日，荷兰发布新的先进半导体器件出口管制规则，要求荷兰部分浸没式光刻器件能够未经授权出口。 新规则将于 2023 年 9 月 1 日生效，如遇特殊情况，将于 2024 年 1 月 1 日前进行修订。
这是因为深紫外光刻工艺现在得到了更精确的监管。
ASML的浸没式光刻装置包括1980年代、2000 i、2050 i和2100 i，所有这些器件的分辨率都低于38纳米。
2050 I 和 2100 i 是世界上最先进的深紫外光刻设备，适用于 28 nm、14 nm、10 nm、7 nm 甚至 5 nm 以上的应用。
1980 DI是第一代深紫**机，已经服役了10多年，可以制造10nm尺寸的芯片，其工作效率可以达到97%。
虽然台积电已经用这种方法制造了7nm芯片。 但是，由于台积电的7nm工艺有一定的水分，因此其7nm工艺水平可能不如英特尔。
因此，大多数制造商使用1980年的DI光刻技术来生产14纳米及以上的芯片，而7纳米及以上的芯片非常罕见。
2050 i 相当于 sub-7 纳米的 DRAM，而 sub-7 纳米也可以达到 10 纳米。 但问题是，在没有基本光刻设备的情况下，这项技术可能会出现在 7nm 芯片上。
简而言之，荷兰实施禁令是因为中国不能制造14纳米以下的逻辑芯片，也不能制造128纳米以上的DRAM和NAND闪存芯片。
它用于智能手机、计算机、人工智能芯片和内存。
如果是以前，对国内军工行业可能不会有太大影响，但对国内高科技产业却会造成很大的打击。
高科技是各国竞争的焦点，你说是改变整个社会的新一波技术革命，如果不抓住这个机会，那你真的不知道什么时候会到来。
一些分析人士还认为，如果光刻工艺受到限制，像中国华为这样的高科技公司将面临经济限制。 只是他们的目标是一样的。
因此，国产光刻机还是要打破常规的。
丹麦人还在石头上印刷吗？
因为在我国，石版画是一种“机密”，公开信息很少，而且我国的石版印刷设备很多，所以很多国外学者对我国的石版画问题持怀疑态度。
实际上，这根本不可能。
2022年初有报道称，上海半导体股份有限公司在28nm光刻工艺上取得突破，有望在2023年实现量产，这也是中芯国际与华华鸿芯在芯片生产上的紧密联系。
根据安排，28nm光刻的第一阶段测试已经完成，现在第二和第三阶段的测试正在进行中，所以我们很快就会看到这两个阶段。
从公开资料来看，28nm光刻器件所需的器件都是国产的。
深紫外193nm波长由北京宏源科技有限公司与美国ASML联合研发; 现在我们在28nm光刻工艺上已经取得了一定的性能，但与德国的蔡司相比还有很大的差距。
华夏精密拥有两个工作站，得到了清华大学、华为等多所高校的支持。
QIER E&M研发的全固态浸渍系统，温度稳定性精度为0001及以上，综合技术指标仅次于日本、日本ASML。
在此背景下，我国在UUV光刻的研发方面取得了一些成果。
2023年，中国科学院院士温宁克访问中国，视察长春光电研究所，并称赞中国的光刻工艺。
这一举动也让温宁科非常不高兴，因为他认为中国发展先进的光刻技术会破坏全球产业链，最终导致全球晶圆行业出现危机。
经过这段时间的研究和同行的打压，国产光刻机的发展非常迅速，一些关键核心技术已经触动。
美国和苏联的人说，中国制造不了核弹，所以有原子弹，有原子弹;
美国前国防部长曾经说过，中国不可能制造第五代战斗机，这就是为什么我们将拥有J-20;
台积电董事长张忠谋曾说：“即使中国花10万亿元，也做不出高端芯片，”他说，“这就是为什么才会有麒麟9000;
ASML曾经说过，就算拿到中国的蓝图，光刻机也做不到，也不知道这能行不通。 如果是这样的话，ASML将丢脸。
为了满足公司的需求，该公司从荷兰引进了一条光刻生产线，并最大限度地降低了成本。 但是，对于光刻工艺，中国并没有停下脚步，一直在加紧研发，相信用不了多久就会有好消息传来。
我是科技明婷，感觉好请点赞！