近日，中国大陆从荷兰进口光刻设备价值突飞猛进，同比增长1000%。 这一数字明显高于前几个月进口这个数额引起了很多人的关注和质疑。 一些网友开始质疑这是否意味着国产光刻机无法满足我们的需求？ 然而，事实并非如此。
中国大陆芯片制造过程非常复杂和不同芯片应用场景有不同的工艺要求。 例如，它用于导弹、卫星等领域芯片需要有较高的可靠性、安全性和抗辐射性，对性能要求相对较低，因此通常采用55nm和60nm以上的工艺。 应用程序在智能手机上芯片它需要高性能、低功耗和集成 CPU、GPU 等isp、NPU等功能，一般采用7nm以下工艺。 目前，国内光刻机只能满足90nm、110nm和280nm的光刻需求，55nm经过多次制造**芯片但良品率会降低，泄漏率会提高，因此更适合于航空航天、工业工业控制等对工艺要求不高的领域芯片
但是，我们每天使用的手机芯片、电脑CPU、人工智能芯片等等光刻机为了满足这些要求，目前主要是荷兰人能够满足这些要求asml公司。 asml成立于 1984 年，业务遍及全球光刻机该领域的龙头企业，其市场占有率已达到85%。 公司有6种类型，包括G线、I线、KRF、ARF、ARFI、EUV等光刻机它可以满足每个场景的不同工艺要求。 其中，ARFI光刻机（即渗透 DUV。光刻机）可以制作7nm芯片而EUV光刻机这是目前最复杂的光刻机，可在7nm以下制造芯片
asml在光刻机该领域的主导地位是毋庸置疑的，几乎所有芯片制造商，包括：台积电三星英特尔微米等，正在使用asml之光刻机。这就是为什么中国大陆需要很多进口荷兰光刻设备的原因。
然而，值得注意的是，荷兰最近出台了关于先进半导体设备出口管制的新规定。浸没式光刻机出口限制适用。 这一限制旨在防止中国获得14nm以下的逻辑芯片、高端DRAM芯片以及 128 层及以上的 NANDFLash 等，这些适用于：智能手机、个人电脑、人工智能芯片也是存储空间的重要组成部分。
这项对中国的限制性措施军事而工业领域影响不大，但对高科技领域影响非常大。 高技术是目前各国竞争的主要领域之一，对中国来说，错失高新技术发展机遇将产生严重后果。 是的分析师思考，限制光刻机出口是对华为等中国科技巨头实施制裁的一种手段，但其实际目的是限制中国高科技技术的发展。
因此，为了减少对数进口中国必须增加国内产量光刻机研发工作。 虽然对于国内光刻机公开信息非常有限，但我们可以肯定它是国内的光刻机研发一直没有放弃，研发进度越来越快。 早在2022年，就有官方报道称，中国的光刻机研发已进入实验室检测阶段，并取得了一定的研发成果。 此外，国内一些企业也在投入资金和人力光刻机研发，如：中芯国际、华宏半导体等
虽然目前国内光刻机仍然无法使用asml之光刻机比较，但中国在芯片半导体行业一直非常强劲。 例如中国芯片领先的制造公司中芯国际近年来，我们一直在增加投资，以生产自己的14nm和12nm芯片实现规模化生产和成功出货。 此外，中国**还出台了一系列政策，鼓励本土企业进驻芯片投资和创新领域。
因此，尽管目前中国仍然需要很多进口光刻机，但国内光刻机并非没有希望。 与中国一起芯片在制造领域不断投入创新，相信国内生产光刻机研发的进展会越来越快，最终能够满足国内市场的需求。