1000、中国从荷兰进口的光刻机大幅上升,国产光刻机就没有希望了吗?

小夏 科技 更新 2024-02-05

中国海关数据显示,中国大陆来自荷兰进口2023 年 12 月,光刻设备的价值达到了惊人的 11 亿美元,同比增长了整整 1,000%。 这个数字比10月和11月要高得多进口金额分别为 67 亿美元和 82亿美元。 而且一年四季进口半导体设备总量也接近400亿美元。 这样的数据让很多网友开始质疑,很多进口光刻机这是否意味着国内光刻机前景黯淡。 然而,在现实中,国内光刻机并非没有希望。 让我们仔细看看国内的生产情况光刻机发展。

芯片作为半导体该行业的核心部件,其工艺和应用场景非常复杂。 由于不同的芯片用于不同的领域,因此对工艺的要求也大不相同。 例如,在导弹、卫星等中军事现场使用的芯片需要具有更高的可靠性、安全性和抗辐射性,但性能要求相对较低,通常采用55nm或60nm或更多工艺。 智能手机等消费电子产品中使用的芯片需要具有高性能、低功耗,并包括逻辑、人工智能和通信等多种功能。 这类芯片通常集成了CPU、GPU、ISP、NPU等核心元器件,所以工艺一般在7nm以下。 目前,它可以在国内量产并商业化光刻机上海微电子600部门柱式光刻机。这些光刻机可满足90纳米、110纳米、280纳米的光刻需求,经过多次**,还可以制造55纳米芯片。 但是,请使用这些光刻机制造的芯片的良率会降低,漏电率也会提高,因此更适合工艺要求较低的芯片场景,如航空航天和工业控制领域。 对于日常使用的手机芯片、电脑CPU、人工智能芯片等,需要更精密的光刻机目前,市场上能够满足这些要求的主要是荷兰人asml公司。

asml公司成立于1984年,业务遍及全球光刻机市场龙头企业,市场占有率高达85%。 公司有6种型号:G-line、I-line、KRF、ARF、ARFI、EUV光刻机。其中,ARFI光刻机,这通常被称为浸入式DUV光刻机,经过多次**,可以制造出7纳米芯片。 而EUV光刻机这是目前最复杂的商业广告光刻机,能够制造 7 纳米以下的芯片。 华为的Kir林 990独 角 兽采用S等芯片asml光刻设备。 asml公司不仅身临其境DUV光刻机占据全球90%以上的市场份额,并在EUV光刻机这是一个独家垄断。 几乎所有的芯片制造商都在使用它asml光刻机无论是台积电、三星、GF、联电、中芯国际等代工厂,还是英特尔、三星、SK海力士、美光、长江存储等IDM厂商。 因此,当国内光刻机当无法满足现有芯片制造工艺的要求时购买asml光刻机成为一种策略。

然而,荷兰最近引入了对高级的限制半导体设备出口的新规定,其中规定了部分浸没式光刻机出口限制。 asml浸没式光刻机它是目前市场上最先进的光刻设备,对国内芯片制造行业非常关键。 因此,此次出口限制对国内芯片行业产生了一定的影响。 虽然国内有一些企业光刻方面有突破,但距离可以与asml在可比水平上还有一定的差距,所以是国内的光刻机很难在短时间内更换进口设备。

尽管国内光刻机虽然存在一些挑战,但也有一些国内企业在增加光刻机研发大力度,力求缩小asml差距。 例如,中科院微电子研究所与创智伟业公司合作E-900E光刻机,声称能够在 28nm 工艺下实现 100% 的良率和 50% 的良好能力。 同时,国内光刻机生产者盐湖一些盐光等股票也正在推出字光刻机,试图提高国内产量光刻机在市场竞争中占有一席之地。

此外,该州还将:光刻机被列为发展关键技术之一,出台多项政策鼓励和支持国内生产光刻机行业的发展。 例如,国家芯片产业投资**增加光刻机工业投资,用于促进国内生产光刻机研发和生产。 与此同时,国内一些大型芯片制造企业也开始活跃起来投资光刻机产业,提升自主研发能力。

综上所述,国内光刻机短期内难以替代进口设备,但在国家政策支持和产业链协调发展的推动下,却是国内的光刻机有望逐步提高自身技术水平,缩小与进口设备缺口。 虽然进口光刻机目前比较符合市场需求,但国内光刻机仍具有一定的发展前景。

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