ASML光刻机的终结,弯道超车的失败,半导体格局将面临变化

小夏 科技 更新 2024-01-31

ASML光刻机终结,外媒:弯道超车失败,半导体格局将面临变化。

荷兰半导体设备公司ASML是目前全球唯一一家能够提供EUV光刻技术的公司,在半导体领域独树一帜。

然而,ASML公开披露的信息显示,它不仅依赖全球5000多家第一链制造商为其EUV光刻机提供零部件,而且严重依赖美国技术。 因此,美国能够限制ASML的一些先进半导体设备**。

芯片市场竞争

不得不说,美国打压和遏制了中国的芯片产业'匕首',哪怕面对所谓的'安全威胁',他们也懒得去找。 但美国也知道一件事,那就是单靠单边武力是很难阻止中国芯片产业发展的,因此美国与日本、荷兰、韩国等盟国不仅结成四方联盟,限制先进芯片和技术的出货,还制定了所谓的三方协议,限制半导体设备的出货。

从目前的市场情况来看,美国、日本和荷兰的半导体设备制造商普遍占据了全球半导体设备市场90%以上的份额,虽然荷兰的半导体设备制造商只有20%左右的市场份额,但荷兰的光刻技术设备制造商可以说是'一条龙'存在。 芯片分为芯片设计、芯片制造和芯片生产。

芯片分为芯片设计、芯片制造和芯片封装测试三部分,其中芯片制造对技术水平和设备要求最高。 在芯片生产中,光刻工艺占20%以上,因此光刻机被称为最重要的半导体设备。

虽然荷兰不想参加芯片竞争,但在美国的一再施压下,最终决定从9月1日起限制半导体设备的出货。 但在制定出口管制规则的过程中,荷兰也在密切关注"理由"1980DI未列入出口管制清单。

这也导致荷兰的光刻出口管制程序仅涵盖38nm工艺,而不是三方协议要求的45nm工艺。 无论如何,毫无疑问,荷兰正在限制半导体设备的**,这影响了ASML的收入和交付量。

ASML开始陷入困境了吗?

由于全球芯片需求下滑,各大芯片厂商减少芯片代工厂订单,导致台积电、三星等芯片代工厂开始减产,甚至台积电产能利用率降至70-80%,四台EUV光刻机不得不停产。

自然,光刻机等半导体设备减产导致需求下降,因此台积电等厂商不仅减少了光刻机的订单,还推迟了光刻机的交付。 此前,台积电宣布:推迟向主要设备制造商交付设备。

这也导致ASML在许多市场的最大交易量急剧下降。 虽然许多其他成熟的工艺芯片代工厂减少了设备采购,但ASML也受到了影响。

从目前全球市场形势来看,中国市场对半导体设备的需求仍然不小。 一方面,中国芯片产业发展迅速,中国设定了到2024年芯片国产化率达到70%的目标,在中国市场的支持下,中国芯片厂商发展迅速,对光刻机的需求也在逐渐增加。

另一方面,美国、日本和荷兰签署限制半导体设备**的三方协议,为中国制造商创造了紧迫感,许多芯片制造商建立了光刻机等半导体设备的库存,进一步刺激了需求。

从根本上说,这意味着ASML仍然需要向中国市场运送大量半导体设备才能维持运营**。 因此,ASML在获得**许可证后,开始加速向中国市场交付光刻机。

ASML没想到,在中国市场实现国产替代后,国内光刻设备厂商发展迅速,清华大学前段时间发表的一篇文章指出了光刻机厂化技术的可能性。

光刻厂?中国已经迎接了挑战。

此前,中国半导体设备制造商上海微电子宣布在28nm工艺光刻技术方面取得突破,将于2024年底或2024年初交付国内市场。 从本质上讲,这意味着中国已经实现了成熟工艺光刻技术的国产替代。

此外,清华大学此前发表的《稳态微束光束原理的实验演示》一文指出,可以尝试使用带有稳态微束集电极的大型SSMB-EUV光源来分割光束,从而将光源分布到数十台甚至数百台光刻机上。

虽然这种方法成本高昂且移动性较差,但它可以快速解决光源问题,并快速提高效率和生产力。 从根本上说,这意味着中国已经进入了一个新阶段,EUV光刻机的国产化只是时间问题。

附言。 由于三方协议限制了光刻机在荷兰的交付,ASML陷入困境,并逐渐失去中国市场。 关键是中国发明了光刻机厂的概念,解决了光刻机设备的问题。

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