ASML光刻机完结，外媒：弯道超车失败，半导体格局即将改变。
随着中美竞争的日趋激烈，国内互联网对芯片的重视程度逐渐提高，很多人也意识到了芯片的重要性。 事实上，随着人工智能、物联网、新能源汽车等新兴产业的快速发展，芯片已经成为更多这些领域"甜美而甜美"。
随着国家对芯片的重视，占光刻工艺需求20%以上的芯片生产环境的改善也开始引起国家的重视。 光刻技术不仅可以应用于芯片制造工艺，还可以应用于芯片封装测试工艺，实现更高的芯片封装测试效率。
目前，国内有许多世界知名的半导体设备制造企业，如上海微电子、北方华龙、华微电子等，其中上海微电子在光刻技术方面发展非常迅速，已进入全球前十，基本仅次于荷兰的ASML，以及日本的尼康、佳能等少数企业。
中国国产光刻机工艺已经达到90纳米，经过多次迭代，可以在65纳米工艺上生产。 此前，上海微电子也报道了28nm光刻工艺的突破，预计将于2024年底或2024年初交付中国市场。
在光刻机方面，荷兰半导体设备制造商ASML是行业的佼佼者，不仅是全球唯一一家可以提供EUV光刻机的公司，也是全球最大的光刻设备制造商。
ASML工程师曾傲慢地表示，即使将光刻机的设计图纸交给中国，中国也无法制造出先进的光刻机。 然而，前段时间，中国显然不需要ASML的光刻图纸来生产光刻机。
如今在光刻机领域处于领先地位的ASML，其实在开发过程中遇到了严重的困难，甚至濒临破产，但最终还是挺了过来。 基于此，不难看出，中国光刻机行业未来的发展未必能超越ASML等欧美企业。
为了制约中国芯片产业的发展，美国不仅多次修改芯片法规，限制先进芯片、技术和材料的出货。 美国、日本和荷兰还签署了一项三方协议，以限制半导体设备的运输。 在美国的一再施压和要求下，荷兰终于宣布，从9月1日起限制半导体设备的出货。
然而，在荷兰对半导体设备的出口管制于9月1日生效的同一天，ASML公开表示，它已被批准出货光刻机，并可能继续出货到2024年。 此外，从今年第二季度开始，ASML开始加速半导体设备向中国市场的出货。
根据ASML公布的财务数据，今年前三季度，ASML在中国市场的收入占比分别为%和48%。 从这些数据中不难看出，与中国芯片公司相比，ASML似乎更专注于加速向中国市场交付设备。
其实这是由于国内设备厂商的快速发展，各半导体设备厂商都完成了升级换代，清华大学也提出"光刻厂"概念。 ASML开始担心中国的光刻技术跟不上。 ASML在发展过程中多次遇到类似的情况，甚至一度濒临破产，相信ASML不想再试一次。
ASML成立于2024年，专业从事高端光刻生产，提供包括光刻、光刻模拟、光刻检测在内的全方位解决方案，以及支持服务、零件等。
2024年，飞利浦光刻设备开发团队的几位成员认为：为什么不自己动手，那为什么不自己动手呢？而且，光刻技术的未来非常光明。 于是，这些人离开了飞利浦，创立了ASML。
长期以来，ASML的业绩并不好，技术水平落后于美国和日本的半导体设备制造商，几乎所有的光刻耗材都卖给了飞利浦，ASML甚至出现了很多财务问题。
ASML命运的转折点始于2024年。 这一年，ASML推出了PAS5500系列光刻机，打破了美国和日本制造商的垄断，逐步成为全球领先的光刻机制造商之一。
从2024年到2024年，ASML开始通过重大并购扩大和优化产品线，ASML进入了快速发展阶段。 2024年，ASML完成了对硅谷集团（SVG）的收购，后者已经拥有成熟的157nm光学技术，通过收购SVG，ASML的光刻技术达到了世界领先水平。 通过收购SVG，ASML成为光刻技术的全球领导者。
ASML的技术水平开始迅速增长，甚至引发了行业的技术变革，2024年ASML推出了双光刻机。
然而，尽管在此期间取得了增长，但ASML仍然面临着尼康和佳能的日本光刻机"约束"，以及美国几家半导体设备公司的强大影响力。 当时，ASML甚至被尼康和佳能使用"打败"，屡屡遭遇厄运，濒临破产。
但ASML再次崛起。 当时，日本尼康和佳能公司希望在未来光刻技术的发展中采用干法光刻技术，业内大多认为ASML正在试验湿法光刻技术，也就是台积电林本建前段时间提出的浸没式光刻技术。
2024年，ASML推出了第一台浸没式光刻机样机，从此，浸没式光刻机风靡光刻机市场，ASML借此机会超越尼康、佳能等半导体设备公司，成为行业领军企业。
后来，英特尔等美国半导体公司组成了EUV联盟，ASML是唯一一家非美国半导体公司。 在财团开发EUV光源技术后，ASML还开发了EUV光刻机，如今ASML是唯一一家可以提供EUV光刻机的公司。
以ASML为例，不难看出，在某些时候，很难为未来的增长选择正确的关键路径。