ASML光刻机终结,外媒弯道无力超车,半导体格局面临变革

小夏 科技 更新 2024-01-19

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ASML拥有光刻机,芯片制造的关键设备,有了光刻机,ASML可以站在全球芯片制造行业的金字塔顶端。 台积电、三星、英特尔等巨头都在寻求ASML合作,中国厂商也离不开ASML的光刻机。

然而,条条大路通罗马,芯片制造不仅仅是光刻机之路,日本已经探索了纳米压印的道路,还可以实现高端5nm芯片的量产。 恐怕ASML光刻机走到尽头,外媒:弯道超车失败,半导体格局面临变化。

ASML的光刻机技术是最先进的,可实现更高分辨率和更高精度的芯片制造。 该技术使ASML能够满足客户对先进芯片制造的需求,并帮助客户提高生产效率和质量。 一台顶级的EUV光刻机价值数亿美元,但即便如此,它仍然是无价之宝。

ASML表示,即使图纸公布,其他人也无法制造出顶级的光刻机。 ASML自信的背后在于对全球产业链的掌控,背后是美国、日本、英国、德国等世界许多国家为其提供顶级零部件,美国光源设备、日本光刻胶等,任何一个都是垄断层面。

其他国家可能不那么容易获得这些资源。 即使与世界顶级制造商合作,制造顶级光刻机也需要特殊的工艺。

例如,食品包装上已经写上了成分表,但对于普通人来说,制造和提取各种元素是非常困难的,材料的比例也会影响最终产品。

ASML掌握了一个独特的公式,不赚钱就很难赚钱。 问题在于,美国等西方国家限制ASML出货,不允许ASML向竞争对手出货高端光刻机。

垄断的弊端在这个时候就体现出来了,行业需要更多的选择,在摩尔定律面临极限的情况下,新工艺、新技术的发展成为许多国家的发展路径,日本迈出了重要的一步。

许多人认为光刻是唯一可以制造芯片的设备,但事实并非如此。 光刻机的原理是将掩模与涂有光刻胶的负片对齐,通过光源将掩模上的图案投射到基板上。 这种光源通常是UV光源。 掩模上的图案在光刻胶上形成投影图案。

因此,只要将芯片图案刻在晶圆表面,无论是用光刻机还是其他方式,都可以制作芯片。

日本光刻机制造商佳能推出了纳米压印设备,目前可实现5nm工艺,未来有望实现2nm。 与光刻机不同,纳米压印设备采用“冲压”的方法将复制的芯片电路压印在晶圆表面,成本比光刻机低,功耗会大大降低。

佳能推出的纳米压印设备自然是准备出售的,无论谁购买,只要有越来越多的买家,那么ASML光刻机就会落到尽头,不再是唯一的选择。

外媒直言不讳:弯道超车失败,半导体格局面临变革。 ASML可能很着急,如果不加大出货力度,未来机会会越来越少。

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