国产90nm光刻机取得突破，ASML出现奇异现象，外媒纷纷猜测其背后的奥秘。
美国一直在限制ASML的先进EUV光刻机的出货，因为它们太复杂了，ASML表示中国的设计无法复制。
这是因为ASML的光刻机采用了来自全球40多个国家的尖端技术，并且有数百家领先公司。
但目前的情况并不像ASML说的那么困难，在全球四大光刻机制造商中，上海微电子就是其中之一，其研发和制造的后端封装光刻机占据了全球40%的市场份额。
去年底，上海宣布国产90nm光刻机取得重大突破上海微电子28nm精密光刻机获得技术验证。
专业人士表示，在多道工序中，90nm光刻机可以将芯片制造工艺缩短到7纳米，而38nm ASMLDUV精密光刻机可以将芯片制造工艺缩短到7纳米。
在上海微电子宣布国产光刻机突破的消息后，ASML突然出现了一个奇怪的现象，那就是坚持要运往中国，不听美国的劝阻。
例如，美国出台了限制相关芯片公司出货的政策，但ASML表示，由于ASML光刻机使用的美元器件数量有限，该政策对光刻机出货量的影响有限。
随后，美国向ASML施压，要求其限制国际常规光刻机出货范围，ASML直接拒绝了这一要求。
倒霉的美国与日本和荷兰签署了一项三方协议，旨在限制ASML通过荷兰进行先进的光刻探险。
因此，ASML不仅在第一时间透露了三方协议达成的消息，还表示立法实施需要时间，预计在6月前完成，这无疑是对制造商下单的提醒。
此外，ASML还通过其官网表示，三方协议限制了2000i型号及后续的DUV光刻型号，1980diduv光刻型号将继续销售，在多**工艺下芯片制造工艺可降低至7纳米。
在中国高层发展论坛上，ASML总裁强调，如果没有瓦森纳安排，中国将成为EUV光刻机的最大市场。
也就是说，ASML不再吹嘘中国生产不出先进的光刻机，而是坚持向中国输送先进的光刻机。
ASML态度大变的原因是国内光刻技术的进步比预期的要快，ASML担心会彻底失去国内市场。
要知道，国内市场是全球最大的芯片消费市场，每年进口芯片总额超过4000亿美元，而且芯片的规律在变化，更多的芯片开始在国内生产，目标是在中国生产百分之七十的芯片。
芯片生产的巨大需求自然需要更多的光刻机，ASML如果不保持最佳质量，将失去很多市场。
此外，国产光刻机等技术进步迅速，90nm技术取得进步，28nm精密光刻机也得到了技术验证，华为、西图等公司也在全力开发更先进的光源技术。
这意味着ASML在中国的存在将逐渐受到侵蚀。
此外，硅芯片正在接近极限，越来越多的厂商开始开发量子芯片、光电芯片等。 荷兰还投入了11亿欧元用于光电芯片技术的研发。
但在光电芯片和量子芯片技术方面，荷兰目前具有优势，但也能够绕过ASML的光刻技术。
综上所述，国产光刻机的发展速度非常快，量子芯片和光电芯片的时代再次到来，ASML必须坚持出货才能抢占市场份额。
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