国产光刻机又有了突破，为什么国内晶圆厂还是选择进口光刻机呢？
我们都知道光刻机是芯片制造的基础设备，没有光刻机就无法制造芯片，但这个基础设备长期以来一直由荷兰ASML公司控制。
前段时间终于传来了好消息：上海微电子制造了一台90纳米光刻机，据说三**后就可以制造出28纳米的芯片。 这标志着上海微电子进入中端光刻机市场。
本来是一件很自豪的事情，但现实是，没有一家工厂使用上海微电子的产品，包括中芯国际、华鸿半导体等，都选择了ASML的光刻机。
问题来了：为什么不选择上海微电子？上海微电子的光刻机出了什么问题？
上海微电子.
上海微电子成立于2024年3月7日，公司经营范围包括：半导体设备、泛半导体设备、高端智能装备的研发、设计、制造、销售和技术服务;公司自产产品的出口业务;公司所需机械设备、零配件、原辅材料的进口业务。
为什么选择上海微电子？
众所周知，芯片广泛应用于工业、农业、军事等诸多领域，但芯片制造一直是我国的薄弱环节，主要设备中的光刻机制造工艺长期存在瓶颈。
2024年，光刻技术被科技部和上海市列入国家863计划，上海微电子就是在此背景下联合成立的。
上海微电子的核心业务是尖端半导体和智能器件的研发、设计、制造、销售和技术服务。
当时，国内光刻机行业处于真空状态，缺乏技术、人才、资金和零部件。 与此同时，国外对我们实施了技术封锁。
可以说，上海微电子是在极其困难的环境下诞生的，其发展承担着国家863计划和集成电路设备国产化的重大责任。
上海微电子的光刻机水平如何？
上海微电子生产的光刻机已经达到中档水平，但与ASML的水平还有很大差距。
ASML是全球唯一一家能够批量生产EUV光刻机的公司，在光刻机领域处于领先地位，可以毫不夸张地说，ASML有实力击败其他光刻机企业。
日本的尼康已经研制出一种能够生产14纳米芯片的光刻机，而美国显然有能力做到这一点。
上海微电子研发的90纳米光刻机可以生产28纳米芯片，不错，属于中等水平。
事实上，近十年国产光刻机与欧美的差距并不大，中国的整机制造也没有明显落后。 但是在经历了一个特殊的十年之后，在上个世纪的第一个十年，太多的信念"你买的都是好的"，最终导致了明显的落后。
此外，上海微电子在显示光刻、MEMS光刻和功率器件光刻方面也取得了不少成绩，年制造出货量达60套，专利3000多项，依然很不错。
上海微电子与上海微电子的差距在于
就差距而言，首先是光刻机的分辨率，毕竟ASML的EUV光刻机用了135纳米的极紫外光，能够制造3纳米的芯片。
上海微电子的90nm光刻机经过三次光刻后可以生产出28nm芯片，相差四代。
其次，上海微电子的光刻机不够稳定，生产出的晶圆良品率也很低。
最后，兼容性：如果使用ASML的光刻机与其他设备完全兼容，上海微电子的光刻机因为兼容性不够好，不得不回购ASML的设备，导致重复购买。
总体来看，上海微电子在光刻机领域取得了长足的进步，但与承担着国家光刻机研发重担的领头羊ASML仍有巨大差距，但已被拉入实体企业名单，未来充满变数。
荷兰ASML
如果我们按设备制造商划分，光刻机只有两种：一种是ASML，另一种是其他。
在出货量方面：
2024年全球共出货光刻机478台，其中ASML出货309台，占64台6%。
其中高端EUV光刻机出货42台，占比100%;DUV光刻机出货103台，占93台6%；KRF光刻机出货131台，占比75%。
销售额：2024年全球光刻机销售额为1076亿美元，仅ASML就实现了854亿美元，占比79%。
可以看出，在光刻机领域，ASML不仅是出货量最大的公司，而且技术最先进的公司，因此在销售上占据绝对优势，净利润非常正常。
ASML能够实现它前段时间所取得的成绩，依靠一次又一次的努力，一次又一次地做出正确的选择。
ASML原本是飞利浦的子公司，但由于连续多年的亏损而被迫**。 但飞利浦仍然持有50%的股份，幻想着榨取最后一滴血，这反过来又加速了公司亏损的步伐。
最终，飞利浦无法盈利，逐渐失去了最后一批股份。 虽然当时ASML正在亏损，连一杯咖啡都买不起，但至少开始了一段新的旅程。
20世纪80年代，光刻技术在日本被尼康和佳能垄断，尼康占据了高达50%的市场份额，而ASML还是一个没有进入流界的小玩家。
此时，尼康在190nm光刻技术的发展中陷入了技术瓶颈，耗资数十亿美元，仍然未能克服。 这时，台积电的林志明用一句话揭开了这个谜团。
水的折射可以用来改变光源，以获得更窄波长的光，那么为什么一定要散射到空气中呢？"
然而，尼康拒绝了林本剑的提议，甚至威胁要**他。
此时，ASML高管认为林本建的提议非常可行，于是ASML与台积电达成技术协议，共同开发"浸没式光刻"。
一年后，ASML正式宣布发现190nm光刻技术，分辨率首次超过尼康。
次年，ASML再次开发出157nm光刻技术，将尼康甩在身后。
台积电基于沉浸式光刻技术，将芯片制造工艺直接推至32nm，将摩尔定律向前推进了三代。
2024年，ASML开始研发紫外光刻设备。 这是一个大型且技术要求很高的项目。 为确保成功，ASML首先与蔡司和牛津仪器建立了EUV研发联盟，共同开发EUV技术。
然后，他与他的前雇主飞利浦、德国计量研究所、美国 EUVLLC 和弗劳恩霍夫仪器公司合作，确保与 EUV 技术相关的配件**。
与此同时，为了获得研发资金，台积电、三星和英特尔联合注资数十亿欧元。
2024年，EUV系统样机研制成功，这给了ASML希望。
2024年，第一台EUV系统研发成功，生产13凭借5nm的极紫外光，ASML向世界宣布了EUV技术的可行性。
2024年，第一台极紫外光刻机安装在ASML总部，10000平方米的超净实验室配备了一辆公共汽车大小的精密设备。
凭借EUV光刻机，台积电和三星相继超越了7nm、5nm、4nm、3nm的制造工艺，推动了摩尔定律的发展。
ASML已成为全球最大、最有实力的光刻机制造商，甚至是光刻机的代言人。
为什么选择ASML光刻？
如今，ASML光刻技术被世界各地的主要晶圆厂使用，包括台积电、三星、英特尔、UMC、GE-X，甚至中芯国际和华宏半导体。
原因如下：首先是EUV光刻。
EUV光刻使用135纳米的极紫外光，而下一道工序所需的设备是7纳米。
说到EUV光刻机，ASML垄断了一切，是世界上唯一一家没有其他分支的。
据报道，ASML拥有40多台EUV光刻机的年生产能力，其中一半卖给了台积电，其余的被三星和英特尔收购。
就算中芯国际想买，就算多花点钱也买不下去。
因此，EUV光刻机不再是产能问题，而是能否买到的问题。
二是DUV光刻技术。
DUV光刻的光源是波长为193纳米的深紫外光，经等离子水折射，波长降低到132纳米。
英特尔公司创建了一个两组模型，该模型使用DUV光刻技术在多次制造14nm晶圆后。
DUV光刻技术是ARFI技术+浸没系统，这两项技术目前只有ASML和尼康，ASML是首创，技术比较成熟，产能也比较大。
第三，ARF、KRF和I-Line光刻技术。
在这个领域，精度基本在65纳米和90纳米以上。 日本的佳能和中国的上海微电子都有能力做到这一点。
公开资料显示，上海微电子的90nm光刻机主要用于制造电源管理芯片、射频芯片、WiFi芯片、LCD控制芯片、模数混合电路等。
90nm光刻机两次后可制作45nm芯片，三次后可制作28nm芯片。
但是，从工艺的实际利用率来看，次数越多，良品率越低，ASML的光刻机只有两倍，上海微电子能做到三倍即使可以，产量会发生什么变化？
可以看出，工艺在28纳米以下的芯片，因为分辨率不够，不能使用上海微电子的光刻技术。
但奇怪的是，即使是45纳米以上的工艺，国内代工厂也更愿意选择ASML的设备，而不是上海微电子的设备。 为什么？
上海微电子的光刻机不够稳定。
一台光刻机，从零件到组装，再到安装调试，绝不是一蹴而就的，它需要长时间的打磨。
ASML的元器件来自全球知名厂商，而上海微电子由于受控和限制只能使用国产元器件，因此精度非常低。
ASML拥有一支遍布全球的安装团队，仅在中国就有多达1500人，这些团队都经过了广泛的培训和经验。 上海微电子在短时间内跟不上这样的节奏。
综合来看，这些因素意味着上海微电子光刻机的稳定性不足，制造芯片的良品率将大大降低。
上海微电子在生态建设方面也存在不足。
芯片制造不仅需要光刻机，还需要等离子体刻蚀机、离子注入机、反应离子刻蚀系统、单晶炉、晶圆刻蚀机、晶圆减薄机和气相外延炉。
这些设备看似独立，但实际上它们必须协同工作才能完成晶圆制造任务，其中任何一个设备出现问题都可能导致晶圆报废。
ASML的设备应用广泛，合作协调较为密切，在随后的几十年里形成了良好的晶圆制造设备生态。
而上海微电子则不具备这些优势，如果不能实现完美集成，也只能再次购买ASML的光刻机。
总之，分辨率太低，设备不稳定，生态不集成，这些共同导致创业者更喜欢ASML而不是上海微电子。
上海微电子在光刻机领域不断进步，但前路并不平坦，甚至遭到了民族代工企业的冷遇。
事实上，这只是发展道路上的一个小小的挫折，ASML当时也经历过同样的情况。
只要我们努力，努力研发，努力提高产品质量，做好生态融合，成功终将属于我们。