EUV光刻机组装难度大，挑战技术极限！

"EUV光刻机难以组装，挑战技术极限"！

大家都知道，7nm级EUV光刻机是唯一可以生产7nm以上芯片的半导体器件，不允许销往中国。

因此，中国很难实现7nm以下的工艺，要么中国可以生产EUV光刻机，要么就会另辟蹊径，放弃光刻技术。

这么多人认为中国不是最擅长抄袭的？ 然后把EUV光刻机拆开，按原样做一个，不是吗？

其实光刻机并不是那么容易制造的，网上有一篇文章说，ASML的工程师告诉中国工程师，就算他们有光刻机的设计图纸，也做不到。

这听起来可能很离谱，但事实可能是这样，即使我们拿到了EUV光刻机的蓝图，我们也未必能生产出来。

首先，极紫外光刻技术极其繁琐，全球有5000多家厂家，共计45万套零件。

这45万个零件，按最小的不动零件，也就是300多万个，其实是可以分解的。 而且大部分关键部件是无法模仿的，世界上只有一家公司可以生产。

此外，他们拥有ASML的专利，我们怎么能复制蔡司镜头设备？ 5000**链条，300多个零件，我们自己生产，有什么问题吗？ 这就是为什么即使他们有图纸，他们也做不到。

其次，EUV光刻机也难度很大，安装调试需要花费大量的时间和精力，现在市场上最大的EUV光刻机重达150万磅，相当于15万公斤。

ASML没有将其分成几部分，而是将其分成几个部分，每个部分都装入250个集装箱中。

交付到指定地点后，ASML将安排250名装配工程师过来，在180天内完成设备的安装调试，这是非常高的技术和经验。

事实上，即使ASML真的把蓝图交给了他们，他们也无法在短时间内做出合适的零件。 此外，还涉及很多技术问题。

所以，EUV光刻机的发展不简单，我们一定不能毁了我们的声誉，我们一定要有信心，但我们也要知道，这不是一件简单的事情，我们必须有充分的意识，做好战斗的心理准备。