挑战ASML EUV光刻机，光刻技术研究成果公布！
半导体行业本身技术门槛高，再加上跨国**链，要走很长的弯路并不容易。 当然，这并不意味着整个行业是一成不变的，总会有少数半导体公司因为技术进步而逐渐走下坡路，而有些公司却在某项技术上取得了突破，成为了行业的佼佼者。
以1980年代为例，日本的半导体产业发展相当不错，在世界十大半导体企业中，日本占了八家，三大半导体企业占了两家日本企业。
日本的半导体企业在晶圆制造、半导体设备、半导体材料等方面都做得很好，日本的半导体产业前段时间在半导体设备和材料方面也不逊色。 在半导体器件行业，ASML正在逐步崛起。
目前，能够生产EUV光刻机的是荷兰光刻机巨头ASML，虽然ASML起步较晚，但在浸没式光刻机和EUV光刻机方面已经超过了日本"双子座"- 尼康和佳能。
不过，由于前段时间的消息，日本光刻巨头佳能（Canon Canon）今年将发布其低成本的纳米压印光刻工艺，但ASML的技术领导者可能无法维持太久。 有业内人士猜测，佳能此举将对ASML在光刻领域的地位产生影响。 此外，ASML还取消了两项出口授权，这意味着ASML在中国的出货量将大幅减少。
根据佳能发布的信息，佳能已经开发了15年的纳米压印光刻技术，现在已经量产了5纳米工艺，未来有望实现2纳米工艺。 最重要的是，该技术可以降低组件的采购成本，降低产品的销售价格，并以更低的运行能耗获得更好的效果。
12月底，ASML推出了其最先进的NAEUV光刻机，并宣布了其制造2nm工艺芯片的能力。 相比之下，佳能在压印光刻工艺上仍然略逊于ASML。
事实上，这对ASML来说仍然是一个非常严肃的问题，可能会对其现有的市场地位产生一定的影响。 毕竟，由于英特尔复工，最前沿的微影子技术成为代工企业争先恐后的关键设备。
如今，台积电、三星、英特尔等国际公司都非常重视2纳米制程，高端芯片厂商也开始密切关注。 根据ASML公布的数据，世界上最好的NAEUV光刻机年产量只有10架飞机，其中大部分由英特尔提供。
换句话说，如果三星和台积电不希望2nm制程技术被英特尔超越，他们将不得不寻求其他途径来获得2nm制程芯片的能力。 佳能的光刻机在技术上并不比ASML的NAEUV差，甚至在**上也有一定的优势。
这也意味着佳能在先进光刻领域有机会"分一杯羹"，而前者一度被ASML垄断。
受半导体器件出口管制政策影响，ASML从2024年起将难以向中国市场供货，这意味着ASML的低端光刻机收入将相当可观。
现在佳能是高端光刻设备的强大竞争对手，ASML不会有好日子。
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