在华为拔得头筹后，美国开始全面限制中国半导体产业。 除了要求美国公司阻止中国公司外，他们还迫使盟友共同打压和制裁中国。 其中，最臭名昭著的是“美国、日本和荷兰”。三方协议
2022年底，有传言称美国、日本和荷兰已经达成协议光刻机设备限制协议，然而，这三个国家一直不愿承认。 直到 2023 年 3 月，确切的消息才出来。 随后，日本宣布将于7月23日实施23台制芯设备的出货。 这直接导致中国公司的限制范围扩大到45nm范围。 在美国的强大压力下，荷兰只能屈服，宣布将于2024年1月1日实施高端攻击DUV光刻机装运禁令。 然而，令人惊讶的是，美国最终放弃了这条链条。
在美国公司的强迫下，荷兰不得不推迟新规则的进一步实施。 他们借此机会宣布将禁令的实施推迟到 2024 年 1 月 1 日。 然而，现在时机已经到来，已经不可能再阻挡即将到来的命运了。
asml它是世界上唯一的EUV光刻机制造商聚集了世界顶级资源。 但其中只有不到10%是自主的。 这意味着不可能挣脱美国的桎梏。 这也导致他们被拜登团队牵着鼻子走。
中国已经下定决心芯片70%自主权的目标。 但在高端芯片要想在该领域取得突破，还需要付出更多的努力。 然而，在成熟时芯片领域不同，只要光刻设备的问题能解决，完全有可能完全自主。
asml中国市场的份额已经超过美国，潜力还在不断扩大。 因此，在加工中光刻机在出货方面，荷兰一直偏向于中国客户。 然而，他们一直受到无法自主生产能力的限制。
新规则原定于9月1日重新实施，将：asml只能发货nxt:1980di这个设备。 但是，这是 10 年前的设备。 即使它能满足中低端芯片生产成本也将翻倍。 这引起了很多关注。 与此同时，焦点逐渐转移到荷兰能否在2024年1月1日之后继续出货高端DUV光刻机。对于这个问题，asml已经给出了回应：“许可证将于 2023 年底到期，1 月 1 日之后将不再可用。 “这表明，尽管如此光刻机该禁令在推迟三个月后仍然有效asml由于荷兰而部分撤销DUV光刻机出货将影响中国大陆的少数客户。
这意味着美国的目标已经实现。 但是，对于asml这不是好消息。 一旦中国开发了相应的光刻机技术，美国，日本和荷兰三方协议它不仅不会被打破，asml重新进入中国大陆市场也将非常困难。
日本公司佳能已开发纳米印记技术并声称有办法实现2nm芯片制造。 从设备和制造的角度来看，成本至少可以降低一半。 这对市场来说是一个全面的冲击。 但是，考虑到日本目前正在加速推广“.三方协议中国未来要获得这种设备并不容易。 另一方面，中国市场亟需补充光刻设备。 如果无法从海外市场获得，则只能在内部开始。
面对走投无路，中国企业表现出了值得肯定的决心。 华为我们克服了重重困难，实现了两项核心技术的自主化。 然而，中国科技显然，不能仅靠行业的全面崛起华为这家公司。 他们需要联手建立一个完整的系统。
每个人对此都有自己的看法。 我认为中国的科技行业应进一步加强合作，加大自主研发力度。 只有掌握了核心技术，才能真正摆脱对别国技术的依赖。 同时，也应提供更多的支持和政策偏好科技企业创造良好的创新环境。
总之asml不愿发表声明表明，美国的目标已经实现。 然而，面对困难，中国企业表现出了坚定的决心和自主发展中国的能力科技行业整体崛起势不可挡。 相信在全社会的共同努力下，中国科技该行业将能够走向更繁荣的未来。