三星电子与ASML达成协议，共同投资韩国半导体研究中心

昨日，三星电子会长李在镕、SK集团会长崔泰源前往荷兰，参观半导体设备制造巨头ASML总部。 此次访问的主要议题是半导体芯片制造方面的合作，ASML和韩国的尹锡悦也参加了会谈。

据了解，当晚，ASML宣布已与三星电子签署谅解备忘录，双方计划投资1万亿韩元成立合资公司，约合资54韩元投资5亿元人民币在韩国成立研究中心，专注于下一代极紫外（EUV）光刻机技术，推动超精细半导体制造工艺的发展。 这一决定标志着三星电子在半导体领域的雄心壮志，也巩固了ASML与三星之间的合作伙伴关系。

同时，ASML还宣布已与SK海力士就环境、社会和公司治理（ESG）问题签署了谅解备忘录（MOU），旨在扩大在上述领域的合作。

不久前，有报道称，三星电子计划在未来五年内从ASML购买50台EUV光刻设备，每台总价值约2000亿韩元，总价值高达10万亿韩元，折合人民币545亿元。

去年 6 月，三星电子推出了世界上第一个使用全栅极 （GAA） 技术的 3nm 代工工艺。 因此，公司一直在积极采购EUV光刻设备，以实现其第二代制程目标，即明年上半年进入3nm制程，随后在2024年进入2nm制程，最后在2024年进入1.2nm制程4nm工艺的突破。

考虑到EUV器件的交货时间至少需要一年时间，李在镕会长去年与ASML首席执行官Peter Bennink的多次会晤似乎已经取得了实实在在的成果，为三星电子未来在半导体领域的发展奠定了坚实的基础。