世界上很多国家都在研究如何避免使用ASML的EUV光刻机，但到目前为止，只有一家公司成功了，一旦成功投产，整个半导体行业将发生巨大变化，甚至ASML的EUV光刻机也将被淘汰。
日本佳能引领芯片行业革命，佳能几年前就研发出了不需要浸没式光刻技术的NIL工艺，但当时的工艺技术还在10nm左右，只有一家日本公司使用了NIL工艺，而日本的“凯杰”则采用了NIL工艺。
因为NIL技术还在10纳米左右，所以还没有得到世界各国的认可，佳能已经承诺他们有能力把这项技术带到5纳米，在过去的两年里，他们已经把这项技术提高到10纳米，现在，他们已经把这项技术提高到5纳米。
它最大的优势是制造成本，它生产的器件**只有EUV的10%，但功耗却是EUV的10%，也就是说，使用NIL的5nm工艺的成本将降低90%，这对于目前的半导体行业来说无疑是一个巨大的**。
从2022年下半年开始，全球半导体行业出现严重的产能短缺，直接影响了全球半导体行业，尤其是一些半导体公司，纷纷向三星低头，逼迫台积电出价，但即便如此，其产品也只能减产20%， 根本无法满足市场的需求，所以佳能在NIL工艺上在性价比方面还是非常强大的。
佳能宣布5nm工艺技术将在全球范围内量产，预计未来还会有一段时间，为了保住自己的市场份额，美国半导体厂商甚至会降价90%，但佳能的NIL工艺技术对美国厂商来说是个好消息。
在美国的压力下，一些半导体厂商很可能会选择佳能的NIL技术，从而降低芯片的生产成本，与5nm光刻机相比，NIL技术将芯片的**降低到非常低的水平。
佳能的NIL工艺可以说是ASML最大的利润渠道，因为只有ASML可以生产EUV光刻机，所以ASML可以垄断7nm以上的工艺，但随着佳能5nm光刻机的量产，ASML的7nm光刻机将突破7nm以上的市场，ASML将无法继续保持7nm以上的优势。
当时，佳能是光刻机领域的霸主，但随着美国转向ASML**EUV光刻，佳能陷入了困境，如今佳能重新进入高端芯片领域，也是为了重拾自己的尊严，这也是佳能在半导体领域的强大实力。
当然，也有业内人士表示，虽然佳能的NIL系列产品很有前途，但目前全球7nm以上工艺的三大公司英特尔、三星和台积电，都购买了大量的EUV光刻机，短期内不应该放弃EUV转而使用NIL， 佳能NIL系列产品的销售将受到影响。
**万粉丝奖励计划 事实上，佳能在7纳米以内的芯片领域，还是中国厂商，可惜佳能无法与中国的半导体厂商竞争**NIL，这让佳能非常失望，因为佳能要等很久才能击败ASML。