18A节点不再使用High-NA EUV光刻机，英特尔能否超越台积电？
就在英特尔收购了ASML的高纳秒极紫外光刻机之后，全世界的目光都集中在了这台光刻机上。 就在大家以为英特尔领先于台积电，开始用最先进的紫外光刻设备生产18A工艺的时候。
英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）前段时间在一次季度会议上表示，英特尔不会将高纳米超高真空光刻技术用于18A处理器，但会将其用于其他处理器"伟大"节点。
1.8nm18 A工艺是英特尔重回工艺技术领先地位的核心工艺，而EUV EUV是2nm及以下工艺的核心部件。 那么，英特尔为什么不使用高数值孔径EUV光刻工艺呢？ 到 2025 年，如果没有高数值孔径 EUV 光刻机，英特尔如何重新获得其作为工艺技术领导者的地位？
为什么英特尔没有将 Gaona EUV 工艺用于 18 A 工艺？
首先，我们来看看超高数值孔径EUV光刻，也称为极紫外光刻。 这提高了分辨率并降低了制造成本。
在芯片制造过程中，芯片电路的细度是决定分辨率的关键因素，制造成本是决定产品竞争力的重要因素。 因此，发展高精度极紫外光刻技术是未来2nm及以下芯片制造的核心器件。
然而，基辛格表示，出于风险管理考虑，英特尔没有将Gaona EUV EUV用于18 A处理器。
Gelsinger 认为风险管理是英特尔成为全球领导者的关键因素。 他认为，高数值孔径极紫外光刻（EUV）光刻技术的引入可能会对英特尔的工艺开发和制造产生不利影响。
从基辛格的解释中，作者总结了以下原因。
1.风险管理：为了重回行业巅峰，英特尔可能会考虑引入高纳秒极紫外光刻（EUV）光刻技术是不必要的风险。 因此，英特尔决定推迟使用下一代光刻技术，以确保其稳定性和可靠性。
2.技术成熟度。 英特尔可能希望在大规模生产之前确保该技术的成熟度和可重复性。
3.制造成本：购买和维护 EUV 光刻机的高成本可能会给英特尔的制造成本带来压力。 英特尔可能认为，现阶段引入高数值孔径EUV光刻技术将对公司的利润率产生不利影响。
当然，这一决定让整个行业都把目光投向了英特尔未来的技术发展，而英特尔回归流程优先技术也成为了人们关注的焦点。
如果没有高纳米EUV光刻机，英特尔又如何超越台积电，重回第一？
英特尔制定了“4年5节点战略”，目标是到2025年击败台积电等巨头，重新夺回制程技术领导者的地位。 其中，18A进程是重夺第一的最重要进程。 然而，最重要的工艺并没有使用英特尔从ASML购买的最先进的高分辨率EUV光刻机。
对于一款尚未成熟的设备，英特尔还能做些什么来让自己重回工艺技术的顶峰？ 事实上，英特尔还有四个方面可以做得好。
1.英特尔可以进一步制定系统级代工战略，为晶圆制造、封装、核心、软件和其他解决方案提供一整套解决方案，以确保在工艺技术方面的持续进步和领先地位。 此外，英特尔还能够与 43 个潜在客户和环境合作伙伴一起测试和优化芯片设计。
2.英特尔可以利用架构创新来提升其竞争优势。 例如，全栅极 RibbonFET 晶体管和 Power VIA 的反馈电源技术帮助英特尔提高了其芯片的性能、能效和可靠性，同时也保持了其在工艺技术方面的领先地位。
3.英特尔不需要高纳米EUV光刻技术，可以继续优化现有工艺技术，提高芯片性能。 例如，不断优化工艺，提高设备效率，降低不良率等，以确保在技术上的竞争优势。
4.英特尔可能会与其他领先的技术公司、研究机构和大学合作开发新的工艺技术。 英特尔可以通过与外部组织合作获得技术和人力资源支持，以支持其工艺技术的持续创新。
简而言之，如果英特尔想在2025年之前重新获得其作为工艺技术领导者的地位，而不使用高纳秒的极紫外光刻技术，它将需要关注多个方面，如代工战略、架构创新、工艺优化和加强协作。
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