ASML2nm芯片光刻机已获得540亿订单

前段时间有报道称，英特尔已经获得了ASML最新的2nm芯片EUV光刻机。

这种EUV光刻机型号称为EXE：5200，与之前的EUV光刻机相比，最大的变化是数值孔径NA，从033，成为当前的 055。

新的EUV光刻机称为高数值孔径系统，而以前的光刻机称为低数值孔径系统。

ASML之前曾说过，当NA提升到0时55岁以后，现在基本不可能改进，所以ASML认为，这台光刻机可能是最后一代EUV光刻机，ASML本身对未来能否改进没有信心。

这种光刻机可用于制造2nm及以下的芯片，因为NA越高，分辨率越高，工艺越低，据说至少可以实现1nm以下芯片的制造。

这个 na=0重达150吨（150,000公斤）的55光刻机在运输时需要250个集装箱箱，同时，拆卸运输到目的地后，需要250名工人进行6个月（180天）的安装调试才能完全安装。

目前，台积电和三星已经实现了3nm工艺，按照计划，两家晶圆厂将在2025年实现2nm工艺，而英特尔则表示将在2024年实现2nm工艺。

因此，毫无疑问，这款新一代EUV光刻机将再次被几大晶圆厂抢购，因为大家都想在2nm时间抢占先机，抢占更多产能，成为晶圆制造的老大。

所以最近，ASML表示，它已经收到了来自几个主要客户的新型EUV光刻机的订单，数量约为20台。 未来，它的目标是每年能够生产 20 台这样的光刻系统。

而这种光刻机，一个**大约是38亿美元，20个单位是76亿美元，也就是540亿元人民币。 而上一代EUV光刻机只有1台约8亿美元。

与上一代光刻机相比，每台高出2亿美元，20台为40亿美元，相当于290亿元人民币。

2017年，美国就明确禁止ASML向中国大陆出售EUV光刻机，即使是最老的EUV光刻机也不能卖给中国大陆，所以无论ASML技术多么先进，我们都要靠自己，独立做出来......