日本半导体公司宣布了一些意想不到的事情！
业内人士表示，国内也在持续推进国产替代进程，上海微电子在28纳米光刻工艺上也取得了突破，预计2024年量产。
报道称，从明年11月开始，日本对华半导体出口已经连续13个月下滑，直到上个月才首次出现上升。
有趣的是，这些要求大多是针对半导体晶圆生产设备的，引起了很多关注。 事实上，日本也参与了一项限制半导体设备供应的三方协议。 日本对半导体产品的出口管制也被认为比荷兰更严格——事实上，荷兰已经向阿斯麦发放了近四分之一的供应许可证，阿斯麦在1月初撤回了两台浸没式深紫外光刻机。
一些行业专家说，日本的做法是一回事，也是另一回事。 表面上看，日本对其半导体设备的供应有严格的控制，但实际上，日本已经打开了向中国公司供应许可证的大门。 此外，尼康和佳能在日本使用的“中国专用版”光刻设备的通用组件也已获得许可。
日方看似削减了日本半导体设备的供应，但实际上，日本半导体设备厂商也明白，想要量产，就必须回到中国市场。 英特尔、台积电等芯片代工厂纷纷开始采购深紫外光刻机，而日本高端EUV光刻机也因产能不足而减产。
因此，对浸没式深紫外光刻机的需求非常高，中国厂商是开发7nm至28nm工艺芯片晶圆的最佳厂商。 但是，随着半导体产业的快速发展，如果日本厂商不能在工艺上取得突破，生产出更先进的光刻机及相关设备，就会逐渐萎缩。
毋庸置疑，为了实现核心技术的彻底突破，中国将不得不放弃对美国和西方公司的幻想。 日本半导体设备厂商虽然非常重视中国市场，但已经为他们预留了申请出货许可证的渠道。 但是，没有人知道运输许可证何时会被撤销。
如果我们想避免"项链"基本技能是必不可少的。 但好在，我国在光刻等半导体元器件方面取得了长足的进步，掌握了极紫外光刻的一些核心技术，取得突破只是时间问题。
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