英特尔弃高数值孔径EUV光刻机，能否超越台积电？

英特尔弃高数值孔径EUV光刻机，能否超越台积电？

日前，ASML向英特尔下单了全球首台EUV光刻机，引起了业界的广泛关注。 就在大家以为英特尔已经击败台积电，用先进的EUV光刻设备量产18A工艺的时候。

英特尔首席执行官帕特里克·辛格（Patrick Singer）表示，英特尔不会在18A处理器中使用高分辨率EUV光刻技术，但会保留到下一个处理器"主要是"节点。

18 A 是指英特尔的 18nm工艺是公司重回芯片技术领先地位的主要工艺，也是2nm及以后工艺的主要设备。 但是，为什么英特尔不在关键节点上使用高频 EUV 光刻技术呢？ 如果没有EUV光刻技术的帮助，英特尔如何在2025年重新夺回芯片技术的领导地位？

为什么英特尔不使用 18A 高氮 EUV 工艺？

首先，我们来看看高数值孔径型，这是一种具有超高数值孔径的极紫外光刻技术。 这意味着它可以提高分辨率并降低生产成本。

在芯片生产过程中，分辨率直接决定了芯片上电路的细度，而生产成本是决定产品竞争力的重要因素。 因此，极高灵敏度紫外光刻的研究和应用是未来生产2纳米及以下芯片的基础设备。

不过，基辛格表示，出于风控原因，英特尔在18A工艺中没有使用Gauna EUV技术。

基辛格认为，风险管理是英特尔将其国内行业提升为世界领导者的重要组成部分。 高数值孔径EUV光刻技术的引入可能会给英特尔的工艺开发和生产带来不必要的风险。

根据基辛格的解释，笔者总结了以下原因。

1.风险管理：英特尔可能认为，高数值孔径EUV光刻技术的引入可能会带来不必要的风险，因为它将使国内行业再次成为世界领导者。 因此，英特尔决定推迟下一代光刻技术的开发，以确保其稳定性和可靠性。

2.技术成熟度：虽然非常高的纳米紫外光刻技术被认为是未来芯片生产的基础技术，但其技术成熟度可能还达不到英特尔的标准。 英特尔可能希望在技术投入生产之前确保该技术的成熟度和可重复性。

3.生产成本：高分辨率 EUV 光刻机的高购置和维护成本可能会给英特尔的生产成本带来压力。 英特尔认为，现阶段推出高NA EUV光刻机将影响公司的盈利能力。

当然，这一决定也引发了业界对英特尔技术未来发展的关注，以及英特尔是否会像回归工艺领域一样成为关注的焦点。

如果没有高分辨率EUV NA光刻技术的帮助，英特尔怎么可能超越台积电，重新夺回第一的位置？

英特尔制定"4 年 5 个节点"战略，目标是以202518击败巨头台积电成为芯片生产的领导者。 但是，英特尔从ASML购买的最后一台EUV光刻机并未投入使用。

没有先进的设备，英特尔靠什么重新夺回世界第一？ 事实上，英特尔还有其他四个优势。

英特尔可以进一步发展其系统级代工战略，通过为晶圆生产、封装、核心材料、软件等提供一系列解决方案，确保在工艺技术方面的持续进步和领先地位。 此外，英特尔还可以与 43 家潜在客户和绿色合作伙伴合作，测试和优化芯片设计。

英特尔可以利用架构创新来提高竞争优势。 例如，英特尔的 RibbonFET、场场晶体管和 Powervia 反向电源技术可提高芯片性能、能效和可靠性，确保英特尔在工艺技术方面的领先地位。

3.即使不使用高数值孔径 EUV 光刻技术，英特尔也可以通过不断优化现有工艺来提高芯片性能。 例如，通过改进工艺流程，提高设备效率，降低不良率，不断优化工艺流程，使产品在工艺技术上具有竞争优势。

4.英特尔可以与国内外知名企业、研究机构、高校等建立合作伙伴关系，共同开发新工艺。 通过与外部机构合作，英特尔可以获得技术资源和人才支持，以促进工艺技术的持续创新。

毕竟，如果英特尔想在没有高EUV光刻的情况下重新获得芯片行业的领导地位，就必须做好准备，并在其代工战略上投入更多资金。

那么，您为什么不认为英特尔现在正在使用高氮 EUV 光刻技术呢？ 欢迎发表评论。