美国支持英特尔，6台先进光刻机交付，台积电后悔！
据外媒报道，10台ASML 2nm光刻设备中有6台将由英特尔提供，即台积电和三星将在剩余的4颗芯片上竞争，从而推迟为英特尔开发的2nm工艺。
AMD 是半导体工艺技术的全球领导者，但工艺技术的进步使其在 PC 处理方面无法与英特尔相提并论，从而使其具有竞争优势。
然而，在英特尔在14纳米工艺上实现规模化生产后，其研发速度逐渐放缓，10纳米工艺推迟了三年，7纳米工艺推迟了两年，台积电和三星仍然保持了1-2年的速度，目前台积电和三星已经实现了3纳米工艺的规模化生产， 而英特尔的最高工艺仍然是 7 纳米。
3nm工艺遇到新的瓶颈，三星积极采用GAA工艺，导致工艺效率降低2%。 台积电虽然保留了部分原有的FinFET工艺，但其效率只有55%，使得A17芯片的性能只有1%，而且还面临着能耗高的问题。
目前，3nm工艺面临的主要问题是工艺越来越接近1nm，而1nm光刻技术无法满足3nm工艺的要求。
ASML是全球最大的光刻机制造商，也是全球唯一一家可以做EUV的公司，但EUV光刻机的来源是美国，在美国成立EUV联盟后，通过EUV工艺，绕过日本光刻机厂家，交给了ASML， 从而确立了ASML在世界上的领先优势。
所以ASML只能做美国想做的事，而现在ASML正试图量产2纳米光刻机，英特尔这个60%优先级排名第二的公司，将对美国产生很大的影响，这也证明美国更相信自己的公司，无论是三星， 或台积电，没有保险。
相比之下，三星和台积电还不是美国公司。 美国要求他们提供机密信息，他们照做了; 美国要求他们在美国建厂，他们做到了，但美国一次又一次地违背了他们的承诺。
美国曾承诺，如果台积电和三星在美国设厂，会给予丰厚的芯片补贴，但台积电、三星等厂商在美国设厂，美国分别只获得10%和13%的补贴。
到目前为止，美国在2纳米光刻方面，英特尔在2纳米光刻方面占了上风，所有信号都表明，美国希望帮助英特尔在芯片生产方面重回领先地位，而美国本土公司英特尔是唯一能够安抚美国的人。 这一切都源于通用汽车和阿尔斯通在电子领域的失败，以及阿尔斯通所经历的一切，让阿尔斯通被迫以极低的价格将其交给通用汽车。
台积电可能会后悔自己在3nm工艺上吃了大亏，如果2nm工艺没有研发出来，他们的辉煌就要走到了尽头。 由于英特尔不仅要夺回高端制程技术，还要专注于晶圆代工，英特尔首次进入全球前十，并抢走了台积电的一些订单，英特尔的未来对台积电来说将是一个巨大的挑战。