日本企业正式挑战ASML光刻机，15年科研成果出炉！
经过15年的研究，日本企业终于对ASML的光刻技术展开了激烈的竞争！
要知道，半导体的研究和生产是当今世界上最繁琐的工艺之一，也是当今最高的工艺之一，也就是3纳米，也就是一个指甲盖大小的地方，要安装几十亿个晶体管，而这些都是EUV光刻技术能做到的。
一台EUV光刻设备是世界上最先进的技术之一，ASML只能实现10%的国产化，也就是说，90%以上的EUV光刻机是由20多个不同的国家提供的。
由于最关键的照明设备都是从美国进口的，ASML在生产上已经失去了自主权，但在美国的控制下，ASML在中高端光刻机领域占据了绝对的话语权。
然而，这种情况并没有持续多久，随着美国**对ASML的控制越来越严格，ASML的市场份额也随之下滑，日本佳能公司持续了15年，终于宣布了与ASML竞争的消息，并宣布将在年内发布一种廉价的纳米压印光刻工艺。
根据佳能的说法，他们目前的芯片制造工艺可以达到5纳米以下的工艺，并且2纳米工艺将继续下去，这种新工艺不仅可以降低采购成本，还可以降低制造过程中的制造成本。
ASML的EUV光刻设备成本超过1亿美元，普通公司买不起，所以能够生产这种高端芯片的公司屈指可数，逐渐成为垄断行业，佳能的光刻机很有可能打破这种局面。
ASML原本在美国的全面打压下受到严密保护，但随着芯片法规的日益完善，原有的全球合作体系也崩溃了，各国都在试图摆脱“美国技术”，EUV光刻机成为舆论批评的对象。
日本企业本来是光刻机的奠基人，只是因为美国对他们实行的全面封锁，ASML才得以发展，但现在佳能可不是一件容易的事，他们的技术可能还好，但客户却不一样。
《美日荷三方协议》生效后，日本**宣布将生产23颗芯片，这让中国企业的客户彻底失去了信心，佳能原本进入中国的计划变得更加困难。
不过，这也不是不可能，ASML的DUV光刻机也受到了一定程度的限制，两家公司站在同一水平线上，只要能把自己的产品卖出去，就能拿到第一名。
不过，佳能也想证明自己的技术是可行的，虽然买的设备便宜一些，但也是一大笔钱，谁也不想当傻子，这也是佳能必须要做的。
但是，从中国的角度来看，国产芯片还是要加快发展的，毕竟还是要自力更生的，现在中国企业在掌握了一些关键技术后，还要继续努力争取国产光刻机。