半导体广泛应用于集成电路、通信系统、光伏发电等领域,大多数电子产品制造都与半导体密切相关,并具有重要功能。 无论是从科技发展还是经济发展的角度来看,半导体创造的价值都是不可估量的。
半导体良率的提高不仅可以降低半导体行业的生产成本,还可以显著提高产品的质量和安全性能。 超纯水与半导体良率密切相关,可用于清洗半导体材料,保证生产质量。 超纯水基本不含任何有机物、微生物、金属离子、细菌等物质,半导体的清洗可以保证它们不受杂质的污染。
超纯水设备是生产超纯水的专用产品,采用“反渗透+EDI+抛光混床”技术。 反渗透是指将反渗透膜技术应用于超纯水设备,可以实现纳米级物质的分离和去除,从而可以有效地分离超纯水中应去除的金属离子、细菌、颗粒杂质等成分。 同时,由于反渗透膜具有很强的防污能力,可以有效降低超纯水设备的故障率,减少清洗次数,延长设备在生产过程中的使用寿命。
EDI技术可对超纯水进行深度脱盐,可实现带电作业加速离子迁移,提高超纯水设备的脱盐率。 此外,EDI模块运行时无污染物质,不产生酸碱废液,具有良好的环保性能。 对精制和混合模块的进一步处理有效保证了超纯水厂的出水质量。
总而言之,超纯水设备具有连续稳定生产、无污染、能耗低、工艺流程短、操作简单等优点,并且还采用智能程序,操作灵活,性价比高。
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