三星逆袭开始！台湾媒体最新动向。
目前，晶圆制造中对先进工艺的竞争已经上升到3纳米，但似乎只有台积电和三星在竞争。 英特尔的7nm已经落后了，尽管它已经重新启动了代工活动，并制定了技术追赶计划，但尚未得到回报。
此前，中芯国际也曾计划量产7nm，但在受到美国先进技术限制后，一直没有相关进展的消息。 现在，台积电和三星在3nm上展开了竞争，而台积电大招之后，三星也开始放大其招式！
为了抢占2024年上半年全球3nm量产率先的机遇，三星在3nm量产仪式的最后一天，大张旗鼓地举行了3nm量产仪式，当时被认为是在召唤台积电。 然而，3nm的良率一直无法提高。
台积电一直走在先进工艺的前面，只能暗中与三星的举动竞争，估计在技术上解决不了问题。 因此，为了展示技术的实力，在2024年的最后几天，举行了罕见的3nm量产仪式。
关键是，现任台积电总裁刘德印表示，3nm量产的良率与同期5nm相当。
据业内人士分析，台积电N3的良率可以达到60-70%，如果按照刘德印的说法，5nm的量产具有可比性，很有可能达到75-80%。 相比之下，三星的3nm良率只有10%-20%。
如果这是真的，那么三星的3nm，即使提前半年量产，也无法与台积电的3nm相提并论。
因此，三星一直无法获得更大的客户，但台积电有苹果、英特尔、高通、联发科等客户表示愿意使用它。 那么，台积电的3nm良率是假的吗？
首先，台积电没有说明3nm的良率是多少，但刘德银表示，相当于5nm同时量产。 这听起来并不令人信服，反而有些可疑，毕竟台积电的3nm量产已经推迟了好几次。
其次，只有台积电及其客户知道3nm的具体良率，外界不清楚，也没有向公众披露。 显然，良率对于铸造厂和客户来说都是一个秘密，因此无法确定良率的高低。
此外，良品率的计算方法也存在争议，没有参考价值。 它仅针对商业晶圆或包括测试晶圆进行计算。
虽然台积电的3nm良率还有些可疑，但从以下两个方面来看，它的良率应该不低。
一方面，台积电的制程一直都具有很高的良率，无论是7nm还是5nm;另一方面，这次3nm仍然使用旧的FinFET工艺来保证良率。 三星正在使用新的GAA流程，因此赌注肯定很大。
另一方面，从客户选择的角度来看，大多数美国客户仍然选择台积电的3nm，这至少说明台积电的3nm良率高于三星。 只有高通选择使用台积电3nm和三星，是因为**问题。
换句话说，3nm工艺的研发投入非常大，如果不被客户使用，那么甚至可能无法收回成本，甚至在先进工艺的竞争中，也会仓促下结论。 为此，三星一直在努力解决良率问题。
在台积电宣布量产3nm之前，三星已经找到了解决良率问题的好方法，与美国公司合作提高3nm的良率，据说已经取得了一定的成果。 现在，台积电的3nm量产暴露了良率问题。
这让三星再次感受到了压力，必须尽快提高3nm良率，否则就会被台积电碾压。
于是，继台积电大举举行3nm量产仪式后，三星也开始放大其举动。 前段时间，据台湾**消息，三星将在3nm制程中使用透光率超过90%的最新EUV胶片，以提高良率。
这部电影由韩国公司S&stech制作，三星投资并获得了8%的股份。 除ASML外，该公司是第二家开发透光率超过90%的EUV薄膜的公司，应三星要求将提高到94%。
该薄膜可防止因 EUV 污染而导致良率性能不佳，三星使用该薄膜来帮助稳定 3nm 良率。
三星一度在晶圆制造方面领先台积电，但后来被超越。 3nm终于率先量产，但良品率赶不上台积电。 如果你想赢回一场比赛，三星只能大举妄动。 对此，台湾**表示三星已经开始反击了！
目前，还没有代工厂使用透光率超过90%的EUV薄膜，三星在使用方面处于领先地位，能否改变良率还有待观察。 台积电和三星的竞争还在继续，我们拭目以待，看看谁强谁弱！