钆靶材特性及制备工艺(材料清单)。

小夏 文化 更新 2024-01-31

钆靶材是一种用于溅射镀膜工艺的材料,主要由金属钆(GD)和其他合金元素组成。 它是一种银白色金属,具有延展性,熔点1313°C,沸点3266°C,密度79004g/cm3。我们的钆靶材具有很高的纯度,通常为 999%以上。 钆靶材需要具有高密度,这通常是通过高温烧结工艺实现的。

钆靶材特性。

钆靶材形状:平面靶材,异形定制。

钆靶纯度:3n

钆靶材尺寸:根据图纸加工或定制。

我们还可以提供金属钆块、钆方块、钆颗粒等

钆靶材制备工艺。

原料准备:根据成分要求,根据要求制备的钆靶材,准确称量所需的钆粉。

混合:称重的钆粉在球磨机中均匀混合,以确保元素之间的良好分散。

轮廓:将混合后的粉末通过冷等静压或成型压制成所需形状,得到粉末压制毛坯。

烧结:将粉末压机坯料置于高温烧结炉中,在一定的温度和气氛下烧结,使粉末颗粒之间形成冶金键,得到高密度的钆靶坯料。 烧结温度通常在1300-1500°C之间。

加工:烧结钆靶坯被加工成所需的尺寸和形状。

表面处理:加工后的钆靶材进行表面处理,如清洗、抛光等,以提高其表面质量。

检波:对制备好的钆靶材进行密度、硬度、纯度等性能测试,确保其符合使用要求。

上图为钆靶材的材料分析报告。

钆靶材应用。

光学薄膜:钆靶材广泛用于光学薄膜的制备,如反射膜、抗反射膜、束膜等。 这些光学薄膜可以应用于激光器、光学仪器、显示器和其他设备,以改善其光学性能。

电子薄膜:钆靶材用于制备电子薄膜,如电容器、电阻器、磁性存储器等电子元件。 这些电子薄膜具有良好的电气性能和稳定性,广泛应用于电子设备和集成电路中。

磁性薄膜:钆靶材可用于制备磁性薄膜,如磁记录介质、磁传感器等。 这些磁性薄膜在信息存储、磁性检测等领域具有重要的应用。

钆金属的其他应用。

磁性材料:金属钆具有良好的磁性能,可用于制备各种磁性材料,如磁记录介质、磁传感器等。 在信息存储、磁力探测等领域具有重要应用。

耐火材料:金属钆可用于制备高性能耐火材料,如高温炉衬、火箭发动机喷嘴等。 这些耐火材料在高温环境下具有良好的稳定性。

电子元器件金属钆可用于制备电子元件,如电阻器、电容器等。 这些电子元件在电子设备和集成电路中有着广泛的应用。

研究实验:钆金属作为一种稀土元素,具有独特的物理化学性质,常用于科学研究实验,如材料科学、化学反应机理研究等。

其他应用:金属钆还可作为催化剂、光催化材料、磁记录装置等领域的原料。

总之,金属钆在电子、光学、医疗、核能等领域具有广泛的应用前景。 随着科学技术的发展,其应用领域将不断扩大。

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