量子计算正在加速发展，中美并列第一梯队，ASML面临淘汰。
据国外报道，量子计算在工业生产中的应用正在加速，预计至少十年后将成为现实，而中国、美国和欧洲处于第一梯队，量子计算将成为中国芯片技术实现弯道超车的重要契机，对中国芯片影响较大的光刻技术将被抛弃。
目前，量子计算如火如荼，全球风险投资机构对量子计算充满热情，尤其是2024年以来，全球对量子计算的投资不断增加，2024年量子计算投资金额达到235亿美元，随着更多的资本投入，量子计算将迎来新一轮的加速。
目前，阻碍量子计算进入工业生产的主要障碍之一是其体积大，同时量子计算也需要在低温下工作，这也是量子计算在工业生产中应用的一大障碍影响量子计算普及的另一个因素是纠错问题，该问题容易受到错误信息的影响，这也促使科学家寻找量子计算错误问题的解决方案，这就要求量子计算具有自我纠错能力。 这也促使科学家寻找量子计算错误问题的解决方案，这就要求量子计算具有自我纠正的能力。
在这些方面，我国的量子计算有自己独特的技术，合肥本源量子公司研发了量子冰箱，为量子计算提供低温工作环境，量子冰箱的体积非常小，可以满足工业环境的体积要求。
对于量子计算的纠错问题，光子技术可以帮助实现量子计算的纠错功能，我国在这方面也走在世界前列。
中国量子计算加速发展的主要驱动力之一是中国晶圆制造受到光刻技术的限制。 目前的硅片技术严重依赖光刻技术，浸没式光刻需要7nm以上，紫外光刻需要7nm以下。
中国在沉浸式光刻技术方面取得了长足的进步，据说国产先进的沉浸式光刻机将在今年年底投产，甚至前段时间的国产5G手机也进一步证明了中国沉浸式光刻机已经投入产线。 然而，EUV光刻机的发展难度太大，预计需要十年时间，因此中国量子计算技术的发展是双向的。
中国的量子计算技术一直紧跟美国和欧洲的步伐，在EUV光刻已经失去重要性的时候，量子计算要达到大规模商业化还需要10年左右的时间。 ASML也深知这一事实，并表示第二代EUV光刻技术将是光刻技术的终结，其光刻活动也将走到尽头。
中国已经准备建设量子芯片——光子芯片生产线，将在今年内实现小规模量产，这让欧美感到震惊，可以看出中国正在尽最大努力推动轻量化量子芯片技术的发展，希望尽快实现量子技术的商业化， 彻底摆脱光刻机等先进芯片设备对中国芯片技术的束缚。
欧洲和中国更渴望应用量子计算技术，希望摆脱美国对硅片技术的垄断。 欧洲已将量子计算应用于空客生产，中国已研制出九章三号超级计算机，面对激烈的竞争，量子计算的小型化可能在不到10年的时间里成为现实，工业生产可能更快。