光刻技术作为芯片制造过程中不可或缺的核心设备，几十年来一直在不断变化和进步，光刻机巨头也多次变化，先是美国公司，然后是日本公司，后来是荷兰公司。
如今，ASML是全球光刻机行业的巨头，不仅占据了全球90%左右的份额，而且还专门生产高端EUV光刻机。 但让ASML没想到的是，光刻机的“逆转”来得如此之快！
因为半导体技术起源于美国，所以产生了光刻机行业最早的垄断霸主。 1980年以前，美国GCA、Ultratech和P&E公司垄断了全球光刻机市场，被誉为“光刻三巨头”。
1980年后，随着全球半导体产业的第一次重大转变，日本的尼康和佳能抓住发展机遇，取代了美国三家光刻机制造商，此后尼康和佳能成为全球光刻机市场的霸主。
美国光刻机厂家先后被收购或被迫转型，从此美国就没有光刻机行业了。
自上世纪80年代末以来，尼康在全球光刻机市场的份额确实超过了50%，佳能也凭借着矫正器的优势占据了一定的份额，因此尼康和佳能成为日本的“光刻机二人组”。
正是在这个时候，1984年，未来的光刻机巨头ASML成立。 在成立后的几年里，ASML也艰难前行，直到90年代才推出相对先进的光刻机，逐渐在市场上获得了一定的份额。
在21世纪的第一个十年，ASML凭借其浸没式光刻机技术超越了尼康和佳能。
在2001年至2010年期间，ASML首先推出了双级系统，大大提高了光刻生产率和精度，随后又引入了林本健的浸没式光刻技术，此后一直引领着全球光刻机市场。
尼康坚持开发干式光刻机技术导致竞争失败，后来转向开发浸没式光刻机技术。
2010年后，随着芯片制造技术不断向小型化推进，ASML推出了更先进的EUV光刻机。 ASML专门生产EUV技术，因此它专门生产EUV，并从此确立了其作为光刻机的霸主地位。
可能是因为日本半导体超越了美国，尼康超越了美国光刻机厂商，所以以英特尔为首的EUV技术组织后来拒绝让尼康等日本公司加入，结果ASML独家享受EUV技术。
因此，在ASML推出新一代EUV光刻机后，英特尔甚至比台积电优先采购6台。
新一代High-NA EUV采用2nm-1nm工艺，但该技术已基本走到尽头。 尽管ASML表示将探索Hyper-NA EUV，以将该技术推进到07nm，但成本已经太高而无法实现。
但是，科学技术的发展和进步是没有止境的，如果EUV技术失败了，新技术自然会出现。 最近，一些科学家提出了一种新的方案，即BEUV技术，它可以带来比目前的EUV更短的波长。
据科学家介绍，2035年之后，EUV光刻机可能会被BEUV光刻机取代。
此外，日本佳能已经推出了没有EUV光刻机的NIL纳米压印技术，基于该技术的5nm芯片制造设备已经向市场销售，2nm制造设备将于2026年推出。
值得一提的是，基于纳米压印技术的光刻制造，不仅成本仅为传统EUV光刻机的10%，而且耗电量仅为EUV的10%，这将大大降低芯片厂商的生产成本。
可以看出，不仅现在，而且在未来，ASML的EUV光刻机已经不再需要了。 更关键的是，ASML的高端光刻机也受到美国的限制，无法运往全球最大的市场大陆。
在这种情况下，光刻机在中国大陆的发展进展得更快，据说有可能实现更先进的光刻机。
因为最近有外媒表示，大陆市场今年将量产5nm制程芯片。 还有回归华为自主研发的麒麟芯片，该芯片已经测试为大陆生产的7nm工艺，这应该不是使用ASML的光刻机。
不仅ASML的技术即将走到尽头，光刻机市场也在被压缩。 对此，有外媒表示，ASML即将再次见到你。 ASML怎么没想到“逆转”来得这么快，EUV才推出10多年！
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