2024年，ASML令人满意！ 浸没式 DUV 光刻机就足够了**。
众所周知，在2024年初，ASML已经宣布了其两款光刻产品的许可，“这将对少数用户产生影响”。
因此，人们立即认为，中国大陆不可能获得这两台尖端光刻机，这将对中国大陆高科技制造工艺的发展产生影响。
考虑到美国对中国实施了一系列限制，例如2019年禁止EUV光刻，然后在2023年禁止高档浸没式光刻。
据业内人士介绍，浸没式深紫外光刻采用193nm光源，经水折射，波长达到134nm; 芯片可以使用多次**等方法用 7nm 工艺制造，理论上也可以采用 5nm 工艺。
目前国内的光刻技术还停留在90nm，而我们目前的技术可以做到7nm以上的工艺，而这台浸没式深紫外光刻机是必不可少的。
不过，从理论上讲，到2024年，就算是3到5年，我们也不会缺少浸没式深紫外光刻机，因为ASML的吸引力还是很大的，2024年也不会缺。
原因之一是，由于ASML的努力以及某些部门的善意，原定于2023年9月1日吊销的许可证被推迟了四分之一。
其次，只有两款产品，NXT2050i和NXT：2100 i，ASML有4台光刻机，加上NXT：2000 i，NXT：1980 DI，它们已经上市。
下面的**显示，这四台光刻机具有相同的分辨率，只是它们的功能不同，所以实际上它们都是7纳米，或者理论上是5纳米。
第三，2023年对于ASML来说是一个有趣的时期，为了在禁令实施之前尽可能满足中国大陆用户的需求，并努力带来光刻机"冲在前面"。
这两个数字让你对2023年的情况有一个直观的了解：中国从ASML进口了约100台光刻机，总价值高达25亿欧元。
2023年1-11月，中国从ASML购买了200多台，总价值500亿元，比去年同期增长了3倍。
ASML还表示，到2023年，他们将向中国客户提供大量订单，从这个估计来看，ASML已经将大部分光刻机产能集中在中国客户身上，这样就足够了。
但他们不知道光刻机的初次质量不稳定，各大厂商都在排长队，所以ASML将产能转移给中国客户。
所以，到2024年，我们已经拥有了足够的水下深紫外光刻机，高端光刻机去年已经买好了，剩下的都比较便宜，足够支撑我们几年了。
而且，在芯片开发方面，"工艺"它不是无穷无尽的，28nm的线宽基本上是极限，5nm不是指5nm，而是通过结构和工艺的改进，实现了"5 nm"能效。
在此基础上，通过器件设计、结构和封装的改进，我们可以完全实现采用深紫外光刻技术在3nm以下的工艺，从长远来看，我们并不着急。
而且，随着技术的进步，除了光刻之外，还有纳米印刷、电子束光刻、数字减法（DSA）等，这些都是世界上最先进的技术，也许这个禁令会把中国带向相反的方向。