在全球芯片研发和制造的产业链中EUV光刻机其重要性不容忽视。 asml该公司是目前唯一一家可以生产的公司EUV光刻机具有绝对的市场垄断地位。 然而，近年来由于美国限制性政策的加强，asml日本企业的垄断地位开始受到挑战佳能宣布将推出低成本纳米压印光刻技术，意向是挑战asml在中高端光刻机市场占有率。
佳能经过15年的努力，取得了令人瞩目的科研成果。 他们已经成功开发了纳米压印技术，目前已实现半导体节点宽度达到5nm，并计划在未来继续克服2nm工艺的挑战。 跟asml之EUV光刻机比较纳米压印光刻机由于采购成本较低，对制造高端芯片的制造商更具吸引力。 asml之EUV光刻机超过1亿美元的成本使得只有少数公司能够负担得起，进一步加剧了市场的垄断。 佳能纳米压印光刻有望改变这一格局。
然而asml不要轻易退缩。 由于美国的全方位打压，asml它得到了很好的保护。 虽然佳能在技术方面没有太大问题，但在客户群的差异化方面存在差距。 美日荷三方协议执行后，日本公布了23套芯制造设备，直接被切断中国企业客户群。 佳能试图利用中国市场作为突破口，但面临很大困难。 然而，这并非没有机会。 由于asml在高端DUV光刻机出货也受到了限制，双方几乎在同一起跑线上。 谁能解决运输问题，谁就能赢。 为佳能还需要进一步确认其自身技术的可行性。 虽然它的设备是购买**比EUV光刻机这是价格的一半以上，但仍然很多钱。 这个问题的解决方案是：佳能要面对的挑战。
跟全球化合作体系已经崩溃，各国都在寻找摆脱对美国技术依赖的方法。 EUV光刻机作为最先进的芯片制造设备，自然而然地成为公众批评的对象。 现在asml在20多个国家的**链下能实现不到10%的技术自主性，其核心光源技术来自美国。 这导致：asml失去了自主运作的权利，但在美国的帮助下科技霸权，为企业奠定了市场的基础。 然而，情况正在发生变化。
对于中国市场来说，加快自主技术的研发势在必行。 靠自己才是最靠谱的中国企业核心技术已经取得突破，现在我们需要付出更多的努力来实现光刻机自治。 只要28nm就可以实现光刻机采用先进的技术可以满足当前市场的芯片需求。 中国市场的崛起将进一步改变全球芯片市场的格局。
看佳能右ASML光刻机挑战，我认为是科技发展的必然结果。 跟全球化随着合作社体系的崩溃，各国都在寻找实现技术自主的方法。 佳能作为一家日本公司，我们有方向依靠我们积累的经验和技术能力ASML光刻机接受挑战的能力。 虽然在客户群和运输问题方面，佳能虽然困难重重，但在技术上取得了显著成就。
对于中国市场来说，加快自主技术的研发至关重要。 中国已经在核心技术上取得了突破，现在需要加紧努力去实现这些突破光刻机自治。 只有真正实现自主研发和制造，才能摆脱对国外技术的依赖，保障自身的发展利益。
就我个人而言，我非常看好佳能中国公司正在光刻机该领域的发展。 随着技术突破和市场需求的增长，它们有望崩溃asml市场垄断驱动世界光刻机行业的发展。 无论是挑战还是机遇，企业家和科学家都需要共同努力，促进科技进步，为人类的发展做出更大的贡献。