一、项目基本情况
本项目将借鉴国际半导体设备龙头企业建立自己的工艺测试测试线的经验，利用公司现有的工艺测试洁净室模拟晶圆制造厂的生产环境，并配置必要的检测仪器、光刻机、CMP、离子注入机的研发等购置设备，结合各种自制工艺设备，打造集成电路设备研发和工艺测试平台，以完善公司研发和测试环节的产业布局，提升研发测试能力，为公司产品从研发到定型提供更完整的测试服务。
该项目的实施将有效缩短公司产品的研发验证周期，提高研发效率，帮助公司持续推出更多满足各类客户对集成电路制造工艺设备的需求，不断巩固和提高核心竞争力，加快实现公司平台化、全球化战略目标。
二、项目实施的必要性
（一）完善产业布局，助力平台战略实施
近年来，随着中国半导体设备市场的逐步扩大，领先的半导体设备企业开始依靠自身原有的核心优势和工艺开发能力，从关键突破到平台化开发，为自身发展创造多元化增长路线，提升综合竞争力。
例如，在硅蚀刻、PVD和炉管设备的基础上，NAURA逐步扩展到介电刻蚀和CVD领域，最终发展成为国内半导体设备领域的平台型龙头企业。 公司自成立以来，始终坚持“技术差异化”的发展战略，随着清洗设备覆盖工艺的不断扩大，也开始朝着“产品平台”的战略目标发展。
经过多年的不断研发投入和技术积累，公司已成功研发出前端半导体工艺设备、后端先进封装工艺设备和硅材料衬底制造工艺设备。 随着“产品平台”战略的逐步实施，公司的研发实力和产业配套能力也提出了更高的要求，公司亟需搭建完整的研发和工艺测试平台，满足多样化产品的研发和测试需求，提高研发效率。
例如，国外平台型半导体设备公司AppliedMaterials多年前就率先建立了自己的工艺测试测试线。 通过本项目，公司将借鉴国际半导体设备龙头企业建立自己的工艺检测和测试线的经验，引进必要的研发检测仪器、光刻机、CMP、离子注入设备等，结合多种自制工艺设备，打造自己的研发和工艺测试平台， 从而完善公司研发和测试环节的产业布局，增强研发实力，加快实现公司平台化战略目标。
（2）缩短研发验证周期，提高产品研发效率
半导体设备是半导体产业的基石。 芯片设计、晶圆制造、封装测试都需要在器件技术范围内进行设计和制造。 半导体设备具有结构复杂、体积大、集成度高等特点，其良率和稳定性在很大程度上决定了半导体产业的发展前景。
同时，随着半导体制造工艺的发展，对半导体设备提出了更严格的规范。 因此，半导体设备的研发具有技术难度高、资金投入大、研发周期长等特点，每个研发环节对产品的成功研发和产业化应用都起着至关重要的作用。
目前，公司的半导体设备研发流程主要分为项目启动、规划、设计、制造和验证五个阶段。 其中，项目启动、规划、设计、制造阶段的工作主要依靠公司内部研发资源完成，自主可控性高，而产品验证需要借助集成电路厂商的产线和生产环境完成，同时涉及集成电路厂商产线调度的沟通协调， 安装问题反馈、工艺测试数据收集等，自主可控性低，工艺繁琐，验证周期长，甚至影响公司产品的产业化进度。
本项目将利用洁净室、软硬件设备等模拟芯片生产的完整工艺和环境，为公司各类工艺设备的研发创新提供完善的验证平台，便于安装问题和工艺测试数据的收集和讨论，以及设计调整的开发， 可有效缩短产品的研发验证周期，提高研发效率。
（3）提高研发和测试能力，保持技术创新优势
公司所处的半导体设备行业属于技术密集型行业，生产技术涉及微电子、电气、机械、材料、化工、流体力学、自动化、图像识别、通信、软件系统等多学科、多领域知识的综合应用，因此技术创新能力是行业内企业的核心竞争力之一。
公司自成立以来，一直致力于为全球集成电路行业提供技术领先的设备和工艺解决方案，凭借差异化的技术和丰富的产品线，已发展成为中国大陆为数不多的具有一定的国际竞争力的半导体设备制造商之一。 但随着半导体工艺技术的进步，公司仍需不断提升研发实力，不断研发创新，巩固核心竞争力。
该项目将搭建自主研发和工艺测试平台，全面提升研发和测试能力，为公司产品提供从研发设计到产品定型的全流程检测服务。 因此，本项目的实施，一方面将为公司研发工作的顺利开展和成果转化提供更有利的硬件支撑，帮助公司不断推出芯片制造工艺设备，以满足更多国内外客户的需求，从而不断巩固和提高技术差异化，以技术巩固市场竞争地位创新;另一方面，也有助于公司抓住中国半导体产业的快速发展机遇，通过技术创新和差异化不断开拓全球市场。
3、项目实施的可行性
（一）项目具有良好的产业政策环境
上海拥有中国大陆最完整的集成电路产业布局，浦东集成电路产业已覆盖设计、制造、封装测试、设备、材料等各个环节，形成了一批中国龙头企业和独角兽企业。
近年来，上海先后出台了《上海市国民经济和社会发展“十四五”规划纲要和“二、三五”长期目标》、《关于促进新时代上海集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》等一系列产业规划和政策， 从人才、企业培育、投融资、研发应用、行业管理、蚀刻、蚀刻机、清洗机、蚀刻机、蚀刻机、清洗机、蚀刻机、清洗机、蚀刻机、离子注入机等方面，在集成电路生产、设备、材料等领域提供一系列支持， 集成电路领域重大技术突破有望实现
本项目领域为半导体设备的研发与制造，符合产业政策导向。 因此，该项目的实施具有良好的产业政策环境。
（2）公司具备项目实施的研发基础
本项目建设的研发和工艺测试平台，需要购置测试设备、光刻机、离子注入等设备外，还涉及公司部分自制设备、测试环境和技术平台的建设，对技术、设备、工艺和环境有较高的要求， 而公司雄厚的研发和技术实力，可以为项目的顺利实施提供保障。
在研发硬件环境方面，公司在上海张江建立了总部研发中心，拥有1级和1000级超洁净室和电子显微镜实验室进行研发、生产和测试，配备双光束电子显微镜、离子束切割仪器、光学显微镜、四探针膜厚仪、缺陷检测设备等检测仪器， 并积累了丰富的实验室管理和运维经验。在技术水平方面，公司是国内领先的半导体设备公司。
通过持续的研发投入和长期的技术和工艺积累，在新产品开发和生产工艺改进方面形成了一系列科技成果，形成了成熟的核心关键工艺技术、制造能力和原创创新研发能力，形成了与全球第一梯队半导体竞争的半导体清洗设备和半导体电镀设备设备制造商。立式炉系列设备已批量进入多家客户的生产线，涂胶显影轨道设备也已进入客户并正在验证中，等离子体增强化学气相沉积PECVD设备正在开发中。
公司产品得到了国内外众多主流半导体厂商的认可，取得了良好的市场口碑。 此外，公司还成功入选上海市科委颁发的首批企业重点实验室，连续多年被评为“中国半导体装备五强企业”，SAP兆声波清洗技术荣获2020年度上海市科技进步奖一等奖。
（3）公司有项目实施的人才基础
创新驱动本质上是人才驱动，人才是创新研发的基础和核心要素。 本项目旨在提高公司的研发测试能力，提高研发效率。
公司自成立以来，高度重视人才的培养和研发团队的建设，建立了完善的人才培养机制，形成了一支具有国际竞争力的核心技术团队。 截至2023年9月30日，公司研发人员724人，占公司员工总数的46人89%。
从研发人员的学历结构来看，博士学历8人，硕士335人，本科学历324人，占研发人员总数的比重27% 和 4475%，整体受教育程度较高。 在洁净室运维人才方面，公司自2007年起设立研发洁净室，EHS部门负责运维。
4、项目投融资预算估算及进度
该项目预计建设周期为4年，计划总投资94,034850,000 美元。
项目主体为上海盛威，实施地点为上海临港新区东方新港新苑南路388号。 截至本报告公布日，该项目的备案和环评程序正在处理中。