ASML承诺不负众望！ 2024年DUV光刻机将不缺！
我们知道 2024 年才刚刚开始，ASML 已经宣布取消 NXT2050i 和 NXT 2100 I 光刻机的许可证。
因此，很多人认为中国大陆没有两台光刻机。
难怪美国于 2019 年开始对中国实施禁运，禁止 EUV 光刻，并于 2023 年禁止深紫外光刻。
据业内专家介绍，以193纳米为光源的浸没式光刻，由于水的折射，光源波长可达134纳米，这使得通过**等多种工艺生产7纳米和5纳米芯片成为可能。
目前，国内所有的光刻机都采用90nm工艺，而我们的技术已经达到了7nm以上，所以DUV光刻机是必不可少的。
但即使 ASML 在 2023 年有所改善，我们也不会在 2024 年之前出现芯片短缺。
其中之一是现已撤销的许可证，该许可证原定于 2023 年 9 月 1 日撤销，但由于 ASML 与不同个人之间的协调而被推迟了四分之一年。
其次，这次只有两个型号 - NXT：2050 I和NXT：2000 I和NXT：1980 DI被取消。
从**可以看出，这四台光刻机的分辨率相同，但产能却相差甚远，低至7纳米，高至5纳米。
第三，ASML非常诚恳，积极配合中国大陆用户，争取在禁令实施前"抢"到光刻机。
2022年，中国从ASML购买了约100台光刻系统，总价值为21亿欧元。
今年1月至11月，中国从ASML购买了200多台光刻机，总价值为500亿元，是去年的三倍。
ASML还表示，它将在2023年之前向中国客户供货，这表明ASML已将其大部分光刻产能转移给中国客户。
毕竟光刻机是世界上稀缺的商品，各大代工厂都在争先恐后地抢购，在这种情况下，ASML对中国来说可能并不容易大规模生产。
因此，在ASML的努力下，到2024年，我们都不会出现DUV光刻机的短缺，而且我们已经购买了一些高端设备，低端设备将持续很多年。
更重要的是，考虑到芯片的发展，"工艺"不可能一直这样做; 28 nm 后，线宽将停止增加，5 nm 以下的最小线宽不是 5 nm，而是通过结构和工艺改进实现的"与5nm相同的能效"。
如果我们改进设计、结构和封装，我们将能够使用深紫外光刻技术生产出与3nm工艺相媲美的芯片，从长远来看，我们不必急于求成。
此外，随着技术的进步，光刻不再是唯一的方法，纳米印刷、电子束光刻和数字减法都达到了新的水平，因此中国可能不得不因为这一禁令而改变其战略。