第28章 单波长光学膜厚监测原理介绍

全文分为五个部分。

1）膜厚监测方法的类别。

2）单波长光学膜厚度控制原理。

iii） 单波长比例法的起源。

4）光控厚度补偿示例。

v） 摘要。

一种）。膜厚监测方法的分类

薄膜厚度监测技术作为薄膜制备工程中的一项关键技术，一直是工程师们的重中之重。 镀膜过程中的膜厚监测需要对光学膜的厚度进行非接触式、非破坏性的实时测量，并在达到所需厚度时及时发出控制信号。

薄膜厚度通常以两种方式表征，即物理厚度和光学厚度。 相应的常用膜厚监测方法有石英晶振法（晶体控制）和光学膜厚监测法（光控制）。

光控的优点是：

可直接测量光学厚度;

它反映了与薄膜的折射率和吸收相关的附加信息;

可以在一定程度上自动补偿膜厚误差。

相比之下，Crystal Control只能测量薄膜层的物理厚度，而不能直接反映光学厚度。 因此，在目前的高精度光学镀膜应用中，通常采用晶体控制来监测成膜速率，而光控制则用于控制薄膜厚度。

光控技术又称光电检测法，根据具体厚度判断法可分为极值法、差分法