哈尔滨工业大学EUV研发新阶段，外媒：拜登的计划是徒劳的。
自从中国的科技走向世界"阶段"后来，美国资本主义开始担心，为了防止其国际主导地位被中国窃取，经常对中国的科学技术，特别是在半导体领域施加限制。
如今，哈尔滨工业大学又宣布了新的消息，国产EUV光刻设备发展进入了一个新的阶段，国外纷纷报道拜登的计划已经"失败"，制裁已经"秋天"！
要知道，2024年，美国担心中国半导体芯片即将实现战略自给自足，开始采取针对性的限制措施。
第一个限制是当时市场上最先进的晶圆制造设备——EUV光刻技术，作为EUVLCC财团研发的产物，前美国占基础技术的30%，所以他们直接切断了**与欧洲大陆的联系。
因此，国内半导体设备企业即使加入中芯国际的"多技术"目前只能生产7nm工艺的晶圆，价格昂贵。
但美国资本家"野心"可能不止于此，近年来，不仅来自中国的半导体设备持续增加，还对华为、长江存储、中兴、浪潮等多家中国企业实施制裁。
显然，为了利用中国现有的高铁线路，装甲机、手工切割钢材甚至"天宫空间站"等高科技产品，美可谓是"不道德"地球正试图用自己的计算来阻止中国。
到2024年初，美国甚至邀请日本和荷兰建立"美日荷联盟"，通过中国在光刻领域的制裁"秘密协议"中国大规模生产成熟工艺晶圆的能力也受到威胁。
然而，拜登甚至西方国家都没有想到，中国的半导体领域发展得如此迅速，除了90nm、65nm、45nm和28nm芯片制造工艺外，国产光刻机的自主研发也逐渐成功。
就连EUV光刻的世界垄断也岌岌可危，因为就在最近，哈工大公布了新的信息，再次粉碎了美国的自信心。
曾经主导先进工艺光刻机渠道的ASML总裁表示担忧，称中国自主研发的光刻设备正在伤害国际半导体市场。
温宁格曾表示，即使他将EUV光刻设计交给中国人，他也无法制造出能够生产先进工艺芯片的光刻设备。
现在看来，ASML总裁当时的话，只不过是一种僵化的态度，现在看到中方的进步，他终于开始担心了。
此次哈尔滨工业大学发布的创新技术，是EUV光刻技术的关键基础技术之一——电能转换等离子体线。 在该技术的支持下，EUV光刻所需的DPP-EUV光源可以达到正常水平。
感谢 2022 年发布的哈尔滨工业大学 （HIT）"高速、超精密激光干涉仪"EUV光刻技术的三大基础技术之一，双台，终于成为现实，主要技术要求只是物镜。
然而，在2024年，长春光学与力学研究所已经掌握了大部分"光学投影镜头"技术，不久前取得了突破性进展，获得了符合EUV光刻标准、误差小于0的反射镜1 nm，符合 EUV 标准。
连同2024年研发的镜面系统，为先进高水平晶圆半导体加工装备的建设准备了三项基础技术，这意味着国家EUV光刻机的到来已经不远了。
这也意味着中国EUV光刻机研发进入了一个新阶段，拜登遏制中国的意图"错过"完成。
不得不说，哈尔滨工业大学虽然不如清华大学、北大等知名大学出名，但作为国防七子之一，其贡献和成绩绝对是全国高校中的佼佼者！
因此，希望还在准备报考中学的同学们，充分考虑哈工大，努力学习，未来为国家做出更大的贡献！