涂膜前的等离子清洗处理效果如何？

随着科学技术的发展，如何增强牢固性和可靠性，为了提高光学元件镀膜前的清洁度，等离子清洗是指在真空环境中利用气体放电产生等离子体，同时对基板施加负偏压，为等离子体提供轰击能量， 轰击基材表面，达到去除污染物的目的。

等离子轰击不仅可以去除表面污染物，而且是薄膜镀膜前的有效工艺，使后续镀膜镜片的表面具有很强的亲水性能。

等离子清洗机在轰击材料表面时的作用如下：

1）溅射清洗，进入材料表面时受到弹丸轰击，冲击去除吸附在表面的气体分子和污染物。

2）如果撞击离子向晶格原子传递的能量超过原子的离位阀，则晶格原子可能离位到间隙位置并形成点缺陷。

3）晶体破坏，如果离子轰击产生稳定性缺陷，表面结构会由晶体结构变为无定形结构。

4）改变表面形状，在材料表面，表面的离子轰击会改变表面形状，改变材料表面的粗糙度。

等离子清洗后，随着表面附着力的提高，涂层等离子清洗是一种表面处理技术，可以通过气体反转来清洗物体表面。

在处理过程中，将物体置于低压等离子体中，通过化学反应和物理作用可以去除表面的污垢、氧化物、有机化合物等杂质。

等离子清洗可用于汽车电子、硅橡胶、玻璃等各种材料的清洗，等离子技术的特点是不会损伤物体表面，能加速表面反应和清洗效率。