外媒：ASML率先摊牌先进光刻机。
先进的光刻机主要有两种类型，一种是EUV光刻机，主要用于7纳米以下芯片的生产制造另一种是2000i及以后型号的DUV光刻机，是EUV光刻机的过渡产品。
台积电使用其量产的第一代 7nm 芯片，并确定可以以 5nm 生产，但工艺更复杂、成本更高。
美国一直试图通过瓦森纳安排限制ASML的先进光刻技术和EUV光刻技术的出货。
随后，ASML多次修改规则并进行游说，甚至达成了三方协议，限制2000i等DUV光刻机。
三方协议签署后，荷兰宣布将与美国就半导体出口管制进行合作，但ASML最终声称中国市场至关重要，将加快对中国的出货。
三方协议内容流出后，ASML排在第一位。
二、三季度，用于国内出货的光刻机数量大幅增加，一季度仅占8%。
第二季度和第三季度的业绩为%。
根据ASML发布的财报，今年前三季度国内光刻机出货量为52亿欧元，约合80台。
华为Mate60Pro售后，ASML直接宣布，提交给荷兰**的申请已获批，并将继续向该国出货2000i等光刻机型号。
最关键的是，ASML曾公开表示，预计今年运往中国的光刻机总数将占全球营收的20%;对2024年中国业务持乐观态度。
ASML还决定澄清对美国的出口规则，并暂时继续向美国出口2000i和其他型号的光刻机。
对于ASML的这一系列动作，国外有表示ASML与先进的光刻机存在冲突。 当然，对抗也是由于无能为力。
首先，ASML的收入主要来自光刻机、EUV光刻机和DUV光刻机的销售，这些机会平均分配，导致先进加工产能突然过剩，导致EUV光刻机需求下降。
据悉，英特尔、台积电等公司已经削减了部分光刻机订单，台积电已要求厂商推迟相关设备的交付。
ASML也承认，光刻机新订单数量同比下降了40%以上，因此ASML只能出货更多的DUV光刻机。
中国是全球最大的芯片消费市场，也是全球最大的新能源汽车生产国和销售国，因此越来越多的芯片将在国内生产。
ASML表示，目前为满足国内需求而运往国内市场的光刻机数量中，只有50%显示了国内需求的规模。
其次，ASML的光刻机虽然先进，但也不是无可比拟的，ASML也承认物理定律是一样的，中国厂商也可以通过研发打造出先进的光刻机。
麒麟9000S芯片的发布，证明国内产业链打造了先进的光刻机，华为的徐志军也呼吁国内厂商多使用国产芯片等设备。
日本厂商也开发了5nm印刷机，采用NIL工艺将芯片制造工艺减少到5nm。
关键是越来越多的新型晶圆技术不断涌现，如堆叠技术晶圆、光电晶圆、量子晶圆等，将逐步取代传统的硅晶圆。
此外，ASML还遇到了技术瓶颈：光刻几乎处于停滞状态，而荷兰则宣布在光电晶圆上投资11亿欧元。
在这种情况下，ASML只能加速**，否则将失去更多的市场，更快地被其他技术取代。